中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #293656608 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 from NANOMETRICSは、半導体製造のために設計されたプロフェッショナルレベルのマスク&ウェーハ検査装置です。高度な高解像度散乱計によるマスクやウェーハイメージング、高精度インダイ計測を提供します。自動化されたウエハ機能検査を行う20x倍率画像と、ウエハ全体の視野を広げる3。5倍のトップダウン画像を内蔵しています。検査ユニットは、光学マスクとウェーハイメージング、リソグラフィパターンの監視と評価、マスクとウェーハステッチ、ならびにインダイ計測をサポートしています。ナノメトリクスNANOSPEC/AFT 210は、完全に自動化されたウェーハマッピング機能を備えているため、欠陥密度やオーバーレイ測定など、マスクやウェーハ製造プロセスのさまざまな側面の光学データと散乱データを迅速に取得できます。散乱測定イメージングは広範囲の波長範囲をサポートし、さまざまなプロセスや形状の検査を可能にします。線幅0。018ミクロンのパターンを検出できます。精密なインダイメトロジー測定には、高精度と高解像度の両方を提供するオンボードメトロロジーセンサーを使用しています。重なり合う多層パターンを数ナノメートル以内に測定することができます。このツールは、欠陥、固定/傾斜およびその他の不規則性を検出して測定することもできます。ユーザビリティに関しては、使いやすいタッチスクリーンインターフェイスを備えているため、ユーザーはすぐにモデルをセットアップして操作することができます。また、データ分析や操作のためのさまざまなソフトウェアツールも提供しています。この機器には、複数のサーマルリソグラフィや高度なパターニング計測システムなどの追加の計測ツールを統合するオプションが付属しています。全体として、NanoSpec AFT 210 from NANOMETRICSは、すべての検査および計測ニーズを確実に満たす半導体製造の優れたオプションです。高解像度のイメージングと自動化されたウェーハおよびマスクマッピングにより、生産フロー全体の精度と品質を保証できます。