中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 200 #9246131 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec AFT 200は、市場で入手可能な最高の解像度のイメージングを提供する高精度マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高度な光学イメージング技術を活用して、集積回路やその他のプリント回路基板の製造のテンプレートとして使用されるフォトマスクの非常に詳細な画像を取得します。NanoSpec AFT 200は、可視光から紫外光へのスペクトル応答を備えた最先端の光学ユニットを備えています。これにより、マスク上のパターンの欠陥や不規則性を検出するだけでなく、3次元の特徴をイメージすることができます。このツールは、6「（15 cm） x 8」（20 cm）の大きな視野を利用して、0。18-0。56ミクロンの解像度でフォトマスク全体をイメージし、利用可能な最も強力で正確なシステムの1つです。このアセットには、自動欠陥レビューとソフトウェアスイートが搭載されており、画像解析、データアーカイブ、およびレポート作成のための幅広い機能を提供します。ナノメトリクスNanoSpec AFT 200は、強力な画像キャプチャモデルを使用して、高コントラストとシャープネスで明るい画像を取得します。装置の光学、画像処理および高度なアルゴリズムは、最小の欠陥を検出することを可能にします。また、高度な欠陥認識と分類ユニットを備えており、サイズ、形状、形状に基づいて欠陥を識別することができます。これにより、欠陥の迅速な評価が可能になり、手動検査から推測を削除します。NanoSpec AFT 200は、自動化された画像アライメント、ほこりや粒子の除去、画像処理機能などの追加機能を備えています。機械のすべてのハードウェアおよびソフトウェアコンポーネントは、正確で信頼性が高く、タイムリーな結果を提供するように設計されています。これらのすべての機能により、NANOMETRICS NanoSpec AFT 200は強力で正確なマスクおよびウェーハ検査ツールとなります。