中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 181 #9398849 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec AFT 181は、業界トップクラスの精度とスループットをお客様に提供するマスク&ウェーハ検査装置です。このシステムは、最高精度、最高精度、最高のスループットを提供する高度なエレクトロニクスおよび光学技術を利用しています。さらに、このユニットは、顧客が必要とする可能性のある検査アプリケーション要件を事実上満たすように構成することができます。NanoSpec AFT 181は、高度な自動焦点技術（AFT）を使用して、ウェーハまたはマスクパターンに基づいて光学系の焦点を自動的に調整します。この技術は、検査が可能な限り最高の解像度で効率的かつ正確に行われることを保証します。また、デュアルレーザーソースを内蔵しているため、必要に応じてブライトフィールドとダークフィールドの両方のイメージングが可能です。これは、リソグラフィやエッチング検査、さまざまなマスクやウェーハパターンに基づいた欠陥レビューや補正、レチクル検査など、さまざまな作業に簡単に対応できることを意味します。ナノメトリクスNanoSpec AFT 181は、表面検査と断面プロファイルの両方に対応する幅広いセンサと光学系を提供します。表面検査では、マスク、ウェーハ、基板の高解像度光学検査が可能です。さらに、タイル式スキャン、シングルパス連続スキャン、高効率デュアルパススキャンモードなど、さまざまなウェーハおよびマスクスキャンモードに対応しています。断面プロファイル検査の場合、アセットはインボード分光光度計を備えています。これにより、サンプルの高分解能測定が実現されます。分光光度計は、高度な3Dイメージングを使用してサンプルの形状を測定し、サンプルの高さ、幅、トポロジーに関する正確なデータを提供します。さらに、このモデルは、すべてが完全な検査ソリューションとして連携するさまざまな追加コンポーネントを備えています。これらのコンポーネントには、高度なイメージキャプチャおよびプリプロセッシングハードウェア、およびお客様が欠陥を迅速に特定し、ウェーハおよびマスク製造プロセスを監視できる高度なレポートおよび分析ソフトウェアが含まれます。NanoSpec AFT 181は、コンパクトで使いやすいパッケージで正確性、スループット、柔軟性を提供する高性能マスクおよびウェーハ検査装置をお客様に提供します。このシステムは、堅牢な光学系、高レベル検出アルゴリズム、高度な画像処理技術により、部品の品質を保証するために必要な信頼性と精度をお客様に提供します。