中古 NANOMETRICS NanoSpec 9300 #9241417 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 9300は、株式会社ナノメトリクスが開発した次世代マスク・ウェハ検査装置です。このシステムは、高度で最先端の技術のための高品質の線形および2D検査を提供し、ユーザーは重要なプロセスを監視し、比類のない精度で欠陥をチェックすることができます。NanoSpec 9300は、独自の光学イメージングプラットフォームと、強力でカスタマイズされたハードウェア、アプリケーション固有のアルゴリズム、高度な分析機能を統合して、超高スループットパターンのレビューを提供します。このユニットは、極端な紫外線（EUV）または極端な深紫外線（EDUV）リソグラフィなどの高精細リソグラフィおよびパターン化されたウエハアプリケーションで使用するために設計されています。ナノメトリクスNanoSpec 9300は、統合された光学計測、欠陥検出、自動化されたウェーハおよびマスクアライメント、および包括的な文書化およびレポート機能を備えた、マスクおよびウェーハ検査用の多目的ツールセットを提供します。これらの機能を組み合わせることで、プロセス開発時に究極の柔軟性と制御が可能になり、高精度のイメージングと欠陥検出が可能になります。NanoSpec 9300は、カスタム設計されたイメージングプラットフォームを搭載しており、インタラクティブなパターン識別と詳細な欠陥解析に幅広い機能を提供します。このマシンは、5µmレーザーヘッドを備えており、1。2nmの平均ピクセルサイズで、詳細なイメージングと分析に最大解像度とコントラストを提供します。このツールの高解像度光学センサは、高感度検出器ピクセルの配列を提供し、自動パターンマッピングと包括的な欠陥検査を可能にします。NANOMETRICS NanoSpec 9300には、強力なアプリケーション固有のアルゴリズムも装備されており、ユーザーはマスクやフォトマスクの欠陥をすばやく識別することができ、生産サイクルの早い段階で必要な是正措置を講じることができます。さらに、さまざまな自動ウェーハ検査ツールと包括的なレポートとドキュメント機能を提供し、ユーザーはプロセスをリアルタイムで監視し、主要なパフォーマンス指標を追跡できます。最後に、NanoSpec 9300は幅広いカスタマイズ機能を備えており、さまざまな生産プロセスに対応する汎用性の高いプラットフォームとなっています。このモデルは、パラメータ最適化のための独自のソフトウェアツールを備えており、ユーザーは生産環境の個々のニーズに合わせて検査プロセスを調整することができます。また、複数の業界標準の同時サポートもサポートしているため、ユーザーは同じプラットフォームを複数の生産および開発プロセスに使用でき、貴重な時間とリソースを節約できます。