中古 NANOMETRICS NanoSpec 9100 #293699943 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 9100は、半導体デバイス製造アプリケーション向けに設計された高精度マスクおよびウェーハ検査装置です。トランジスタ、金属層、抵抗を含む半導体デバイス上の単層および多層パターン構造の光学的および電気的解析を、10nm以下のフィーチャーサイズの解像度で提供します。NanoSpec 9100は、広範囲の基板上のサイズ、形状、均一性、接触、深度、平坦性などの情報をキャプチャできる包括的なシステムです。このユニットにはセルフアライニングカメラが搭載されており、手動で調整することなく基板表面からの光学および電気データを正確にキャプチャすることができ、パターン化されたサンプルや未加工サンプルの迅速かつ効率的なイメージングを可能にします。この光学系は、高分解能の作業用に特別に設計されており、位相測定顕微鏡（PMM）、高感度光素子検出（HSOED）、並列検出照明（PDI）などの革新的な機能を備えています。これらのシステムは、極端な解像度、精度、再現性を備えた画像を提供するだけでなく、サンプルの小さな欠陥やバリエーションを可視化するための高度なイメージング技術を提供します。電気検査のために、ナノメトリクスNanoSpec 9100には、C-V測定、キャリア生成マッピング、信号解析を組み合わせたCCD-On-Chip計測（CCOM）マシンが含まれています。このツールは、50 nm以下の分解能でウェーハからの電気信号を記録することができ、高次元データを最適化して正確な測定を行うことができます。NanoSpec 9100は、CCOMおよび光学系に加えて、検査の精度と速度を向上させるための自動データフィルタリング、エッジ検出、認識アルゴリズムなどの高度な後処理機能を備えています。さらに、データ取得と分析の両方に対応するユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を備えた、使いやすいアセットです。ナノメトリクスNanoSpec 9100は、実験室と産業環境の両方で使用するために設計された汎用性と信頼性の高いモデルです。精度、再現性、高解像度のイメージング機能により、半導体デバイスの製造における精度を監視および向上させる強力なツールとなります。