中古 NANOMETRICS NanoSpec 9100 #293595777 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 9100は、デバイスの性能を確認し、潜在的な欠陥を特定するために設計された高性能マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、包括的な検査機能、高スループット、精度を提供し、さまざまな複雑なパターンや基板に最適です。NanoSpec 9100は、集積回路（IC）やドットおよびラインパターンの欠陥をコスト効率よく自動解析できます。ナノメトリクスNanoSpec 9100は、先進的な光学、画像処理、欠陥検出アルゴリズムと組み合わせた業界標準の光学ユニット技術を提供します。In-Chamber Wafer Stageとsub-6nm x-yスキャン精度、およびデュアル光源マルチアングルマシンの両方を組み合わせており、競合システムよりも詳細なレベルを提供します。この技術の組み合わせにより、NanoSpec 9100は最も微妙な重大な欠陥を検出することができます。このツールはまた、倍率の複数の範囲を持つ高解像度のデジタルカメラを組み込み、非常に大きなチップ上の大きな欠陥をすばやく見つけるのに役立ちます。このアセットは、可変光源にも対応しており、ユーザーは明るさレベルを調整して、より良いビューと欠陥を識別することができます。ナノメトリクスNanoSpec 9100は、最先端の画像取得ツールと画像編集ツールを備えています。これらのツールは、高度な形状のウェーハを検査する必要がある人、または検査関連の自動化を必要とする人にとって有益です。これらのツールを使用すると、高解像度のデータを簡単に最適化し、テストプロセスを合理化し、再調整にかかる時間を短縮できます。NanoSpec 9100は、プリボンドプロセスとポストボンドプロセスの両方で費用対効果の高い動作を実現するように設計されています。このモデルの包括的な分析は、大面積および高密度ICの製造の品質を確保し、歩留まりを向上させるのに役立ちます。また、研究開発アプリケーション、生産スクリーニングにも使用できます。NANOMETRICS NanoSpec 9100は、その高度な技術により、最高品質のマスクとウェーハ検査を行うためのゴーツー機器です。このシステムは、潜在的な欠陥を特定し、最高品質の結果を保証するための、迅速で費用対効果の高い、信頼性の高いソリューションを提供します。