中古 NANOMETRICS NanoSpec 8100 #9109938 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 8100は、最先端のマスクとウェーハ検査装置です。このシステムは、半導体、太陽電池、および高度なパッケージング業界を中心に、高度なウェーハ検査およびマッピングアプリケーション向けに設計されています。NanoSpec 8100は、これまでにないレベルのパフォーマンスとデータ精度を提供し、非常に正確な非接触検査と包括的な欠陥解析を提供します。ナノメトリクスNanoSpec 8100は、1秒あたり最大40枚の画像と16ビット以上のダイナミックレンジを備えた超高速フレームレートを採用しています。これにより、非常に高精度な非接触スキャンが可能になり、マスクやウェーハの写真を非常に高精細に撮影できます。また、MEMS、 MEMSセンサ、ハイエンドICなどのデバイスの永久欠陥と過渡欠陥の両方を検出することができ、10µmサイズの高密度特性を検出することができます。また、ナノメートル精度で線端粗さ（LER）、線幅粗さ（LWR）、臨界寸法（CD）などの複数の特徴を測定することができます。このユニットには、自動スキャン、画像校正、欠陥解析など、さまざまな高度な機能が装備されています。5軸ポジショニングマシンにより、シングルダイウェーハとマルチダイウェーハの両方を完全に自動スキャンでき、リアルタイムの画像安定性フィードバックにより高精度を実現します。高度な画像処理アルゴリズムは、最も困難な欠陥を検出し、それらを複数の角度から自動的に追跡して正確に特徴付けることができます。NanoSpec 8100には、データ後処理ソフトウェアも含まれており、ユーザーはさまざまな統計機能を使用してデータを分析することができます。これは、生産動向を確認し、スキャン設定を最適化し、品質基準を満たしていることを確認するために使用できます。このツールには、強力な画像およびデータアーカイブ資産も含まれており、ユーザーは画像とデータを迅速かつ簡単に保存および取得できます。全体として、NANOMETRICS NanoSpec 8100は非常に強力で正確なマスクおよびウェーハ検査モデルです。その超高速スキャン、高度な欠陥検出、および包括的なデータ後処理機能により、幅広い先進ダイからウェーハ検査およびマッピングアプリケーションに適しています。