中古 NANOMETRICS NanoSpec 8000 #9241928 を販売中
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販売された
ID: 9241928
ヴィンテージ: 1997
Automated film thickness metrology system
Film types measured:
Typical range:
Single layer films:
Visible: 200 Å - 30 µm
UV: 25-500 Å
Double layer films:
Visible:
Top layer: 100-30000 Å
Bottom layer: 100-10000 Å
Single layer thick films:
Visible: 4-30 µm
Absolute and relative reflectance:
Visible: 400-800 nm
UV: 210-400 nm
Oxide on poly:
UV: 150-10000 Å
Oxide on metal:
Visible: 3000-20000 Å
UV: 500-5000 Å
Refractive index: 1000-10000 Å
Typical precision:
Single layer films:
Visible: 0.1% or 2 Å min
UV: <1 Å
Double layer films:
Visible:
Top layer: 0.1% or 2 Å min
Bottom layer: 0.1% or 2 Å min
Single layer thick films:
Visible: 0.5%
Absolute and relative reflectance:
Visible: <0.4%
UV: <0.4%
Oxide on poly:
UV: 0.1% or 2 Å min
Oxide on metal:
Visible: 0.1% or 3 Å min
UV: 0.1% or 3 Å min
Refractive index: 0.0005
1997 vintage.
NANOMETRICS NanoSpec 8000は、マイクロおよびナノスケールのデバイス製造における欠陥検出用に設計されたNANOMETRICSのマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、正確な欠陥検査のためのパラメーターベースのアルゴリズムフィルタを備えた自動ソフトウェアユニットと、イメージングおよびデータ取得機能を備えています。最大解像度は10um/pixelで、製造プロセスで使用される材料の光学特性と電気特性の両方にカスタマイズ可能なパラメータを備えています。機械は使いやすく、モーションコントロールとイメージングプロセスの自動化のための洗練されたソフトウェアが装備されています。このプロセッサには、効率的なデータ取得のためのさまざまなエッジおよびパターン検出機能も含まれています。NanoSpec 8000は、高度な光学系を使用して、線幅とエッジ幅、線分とエッジの対称性、加工の深さなど、さまざまな重要な情報を取得します。さらに、4方向照明ツールを使用して、高速測定のための低角度照明、および解像度の要件を支援する焦点照明など、イメージング条件の理想的なバランスを提供します。ナノメトリクスNanoSpec 8000は、さまざまな材料の複雑さのさまざまなレベルで素早く正確にイメージングすることができます。NanoSpec 8000は、ワークフローの複雑さを軽減し、スループットを最大化するように設計されています。インテリジェントでプログラマブルなインターフェースを備えているため、最も複雑な画像測定でも簡単に操作できます。さらに、アセットは、効率的で安全で安全なデータ処理も保証します。結論として、NANOMETRICS NanoSpec 8000は、マスクやウェハ加工などの幅広い検査作業に適しています。欠陥検出用の高解像度イメージングが可能で、直感的なユーザーインターフェイスを備えており、最大の効率を実現しています。また、簡単にデータを取得するためのさまざまなイメージング機能やエッジおよびパターン検出ツール、データストレージ用の安全なプラットフォームも提供しています。
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