中古 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9408485 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 6100は、最先端のイメージング、スキャン、測定技術で構築された特別に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。最大8k分解能のマスクやウェーハの解析が可能で、10nm以下の繰り返し精度でデータの測定が可能です。NanoSpec 6100は、半導体、フォトマスク、プリント配線板、電子包装などのさまざまな業界で、生産前および生産段階の両方で大規模なマスクとウェーハの検査用に設計されています。単位は自動化されたサンプルスキャンのための電動化された段階が装備されています；サンプルの速く、有効な測定のための二軸によってモーターを備えられる高さの調節；そして理性的な収差訂正のための特許を取られたアルゴリズム。これらの機能により、広範囲にわたって1.0uMに小さな欠陥を検出することができ、より少ない変動で信頼性の高い検出を提供します。最大575 x 489mmまでのマスクと、直径4インチまたは200mmまでのウェーハを検査できます。データ出力に関しては、ハイコントラスト画像と生成された欠陥マップを提供することができます。NANOMETRICS NanoSpec 6100は、イメージング機能の観点からラマンコンフォーカル（RCM）ツールを使用しています。これは、生物学的コントラスト機構を使用して物理アブレーションなしで光学断面を生成する高度なイメージング方法です。RCMアセットは、幅広い解像度機能を提供し、他のイメージング技術では実現できない複雑な表面構造をイメージすることができます。さらに、現場での欠陥解析を完全に自動化し、欠陥解析のための包括的なデータ出力を提供します。つまり、装置によって生成された自動レポートには、材料構造、欠陥特性、および欠陥の潜在的な原因に関する詳細な情報が含まれています。最後に、NanoSpec 6100は、検査する必要がある表面欠陥に応じて検査パラメータを設定できる特別な機能を提供します。これにより、幅広いサーフェスを検査する際の柔軟性が向上します。NANOMETRICS NanoSpec 6100は、最先端のイメージングおよびスキャン技術を組み合わせた高度なマスクおよびウェーハ検査システムで、自動欠陥解析を提供し、包括的な結果を提供します。このユニットは複雑な材料の詳細な分析と測定が可能で、高品質のマスクやウェーハの検査に最適です。