中古 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9372486 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec 6100マスク&ウェーハ検査装置は、NANOMETRICSが高度なデバイス機能の高精度、高解像度、スキャンレベル評価のために開発した高性能イメージングおよび光学測定ツールです。このシステムは、最新の光学顕微鏡、デジタルイメージング、計測ソフトウェア、コンピュータ制御技術を活用し、最も複雑な半導体デバイスのマスクおよびウェーハ構造に関する包括的な情報を迅速に取得、処理、分析、報告するように設計されています。NanoSpec 6100は、高輝度フラットパネルディスプレイ（FPD）などのナノスケール上の光学パターンを正確に測定するために特別に設計されています。独自のデジタルスポットオートフォーカスマシンを採用しており、高精度でリアルタイムな測定結果をもとに、フォーカスステッチを高速に行うことができます。ナノメトリクスNanoSpec 6100レポートツールには、複数のレイヤーのデータを単一のレポートに結合する強力なソフトウェアが含まれています。これには、高解像度スキャンレベルのイメージング、層ごとのモデルベースのイメージング、ファインアライメント機能、広範な測定が含まれます。さらに、このツールは、多層マスクアライメントエラーの影響を評価し、プロセス最適化計画を策定する機能など、測定を検証するためのさまざまなカスタム機能を提供します。NanoSpec 6100は、高度なマルチリフレクションおよび反射損失機能により、リアルタイムのイメージングおよび検査も可能です。これらにより、アセットは測定数が少なく、膨大な結果を迅速に提供できます。また、高精度な測定を実現するために、高感度の傾きセンサーとレベルセンサーを搭載し、再現性エラーを低減しています。NANOMETRICS NanoSpec 6100は柔軟性の高いソフトウェアアーキテクチャを備えています。これには、X線回折、原子力顕微鏡、干渉計、走査電子顕微鏡の用途が含まれますが、これに限定されません。さらに、実験の設計、多次元カーブフィッティングなどの包括的な解析ツールが機器に含まれています。直感的なユーザーインターフェイス、高度なスキャンおよび計測機能、および高精度で信頼性の高い結果を生成する機能を備えたNanoSpec 6100 MaskおよびWafer Inspectionシステムは、高度なデバイスパターンを迅速かつ正確に測定および分析するための理想的なソリューションです。