中古 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9355328 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 6100は、半導体メーカーが最高レベルの生産品質を保証するための最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムには、ハイパワー（100ワット）レーザダイオード、大型視野カメラ、高度な光学および画像処理アルゴリズムが組み込まれています。NanoSpec 6100は、マスク面とウェーハ面の両方で3。5nmの欠陥特性を自動検査することができ、リソグラフィーのホットスポット、粒子、傷などの重要な欠陥を迅速に検出することができます。ナノメトリクスNanoSpec 6100は、100ワットのレーザダイオードを使用して、基板の表面をスキャンした長方形の大きな視野に光を投影します。このユニットの光学系は、歪みと光の散乱を最小限に抑えるように設計されており、サブウェーブの欠陥や表面の特徴を高い忠実度で検出することができます。結果として得られた画像は、画像セグメンテーションアルゴリズムによってリアルタイムで分析され、欠陥を特定してフラグを付けて検査することができます。NanoSpec 6100は、2つの高度なイメージングモードを使用して、最大限の柔軟性と堅牢性を提供します。RGBイメージングモードでは、高解像度カラーセンサーを使用して、マスクとウェーハ基板の両方の欠陥を検出します。一方、単波長イメージングモードでは、単一のレーザー波長を使用して、大粒子、小粒子、傷、ピット、およびその他の欠陥のしきい値ベースの検出を実行します。ナノメトリクスNanoSpec 6100は、高度な自動化と柔軟性も提供します。大型のタッチスクリーンディスプレイにより、オペレータは検査の開始と停止、設定の変更、結果の分析を簡単に行うことができます。さらに、このツールの高速スキャン機能と自動欠陥認識により、比類のないスループットとパフォーマンスを実現します。全体として、NanoSpec 6100は、業界をリードするパフォーマンスを提供する優れたマスクおよびウェーハ検査アセットです。高解像度のイメージングと強力な自動アルゴリズムにより、このモデルはリソグラフィック欠陥と重要な表面機能を迅速かつ信頼性の高い検出が可能です。最新の半導体製造で最高レベルの品質と生産歩留まりを達成するための強力なツールです。