中古 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021461 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 6100は、マスクおよびウェハの検査および欠陥制御に高精度かつ再現性を提供するために設計された高性能マスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、最新のイメージングおよび測定技術を活用して、最高品質の設計とウェーハのみを製造できるようにしています。NanoSpec 6100は、マスクとウェーハの欠陥をサブミクロンの分解能と精度で検査し、高度なパターン認識アルゴリズムと測定技術を使用して、設計の外れを特定してマークします。マスクアライメントや検証にRapidScanレーザーイメージングを採用し、より広い設計空間でもマスクパターンやウェーハ全体を高精度に検査できます。また、高解像度カメラを搭載しているため、取得した素材の画像キャプチャが可能です。フォーカス、シフト、倍率の同時測定が可能で、プログラム可能な照明ツールが内蔵されています。ユーザーの校正コストを削減するための光学補正など、さまざまなカスタマイズ可能なパラメータが用意されています。ナノメトリクスNanoSpec 6100には、さまざまな自動試験ルーティングおよび欠陥測定機能が搭載されており、設計モデルの効率的な分析と最適化、および高度な欠陥マスキングが可能です。柔軟なプログラミング機能と、テストパターンと欠陥測定解析の堅牢な自動化をユーザーに提供します。ハイスループットアプリケーション向けに、NanoSpec 6100はマルチチャンバー、4フィールド10ウェーハ自動ステーションでも提供されます。このステーションでは、ウエハ1枚につき最大4つの異なるフィールド画像を使用して、10個のウエハを同時にテストおよび分析することができます。これにより、複雑な配列や要素をテストする際の時間を大幅に節約できます。ナノメトリクスNanoSpec 6100は、ウェーハとマスクの設計を分析および最適化するための汎用性と強力なツールです。高解像度、再現可能な結果、自動化されたテストルーチンにより、ユーザーは設計とウェーハで最高の品質と精度を得ていることを確信できます。