中古 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021098 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec 6100は、高度な光学イメージング機能を使用して、半導体マスクやウェーハを検査する際に利用可能な最高解像度のイメージングを提供するマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、マスクおよびウェーハ検査のための完全なソリューションを提供し、アクティブなウェーハ製造プロセス中に設計精度と規則遵守を迅速かつ容易に検証することができます。NanoSpec 6100には、レーザースキャン共焦点顕微鏡（LSCM）や点投影3D共焦点顕微鏡（PPCM）など、さまざまな高度な光学イメージングシステムが搭載されています。二酸化ケイ素（SiO2）から4インチのエピファイ基板までのウエハータイプを撮影することができ、マスクとウエハの両方で重要なパターンを高解像度で撮影できます。ナノメトリクスNanoSpec 6100には、自動検査ツールと統合してマスクおよびウェーハ検査プロセスを合理化できるアーク~リンク機能が搭載されています。この統合により、さまざまなパラメータの自動更新が可能になり、処理された検査データのリアルタイム分析も可能になります。NanoSpec 6100はスピードマッチングが可能で、高速なスループットとインストゥルメントスループットの信頼性を向上させ、サンプル領域の変更や欠陥が発生した場合の試験カバレッジを向上させることができます。高感度検出機を搭載し、0。1ミクロンまでの高解像度を実現し、ナノレベルの精度で倍率設定の精度をさらに高めています。さらに、このツールには独自のダブルフォーカス補正機能が搭載されており、サンプルの配置がずれても最適なマスクとウエハフォーカスが可能です。NANOMETRICS NanoSpec 6100は、強力な処理エンジンを標準装備しており、最適な画像強化が可能です。この画像強化により、より細かいパターンの検査、および光学アーティファクトの除去が可能になります。NanoSpec 6100は、検査および計測資産を組み合わせて、製造プロセス中にマスクやウェーハの品質を積極的に監視するための最も包括的なソリューションを提供することができます。このモデルには様々な機能が搭載されており、難解な形状や材料を正確に検査することができます。ナノメトリクスNanoSpec 6100は、偏光照明や複数の焦点レベルの掃引などの特殊な技術を使用して、光アーティファクトを軽減します。NanoSpec 6100の最先端バージョンは、81。25トンのビューのフルフィールドを備えたモデルM-821-RFで、ほとんどのマスクおよびウエハータイプに適用できます。結論として、NANOMETRICS NanoSpec 6100は、優れた光学イメージング機能、スピードマッチング、ナノレベルの精度、および強力な処理エンジンをユーザーに提供する高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。また、偏光照明やマルチレベルフォーカスなどの高度な画像強化オプションも搭載しており、難易度の高い形状や素材を検査することができます。NanoSpec 6100は、検査および計測ユニットを統合してユーザーに提供することにより、製造プロセス中にマスクとウェーハの全体的な品質をより密接かつ正確に監視することができます。