中古 NANOMETRICS NanoSpec 4000 #6696 を販売中
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ID: 6696
System
Head assy:
Photomultiplier tube
Wavelength gears
Voltage regulator PCB
Realign head optics
Computer assy: CS-9
Main power supply
RAM/ROM PCB
R&R all PCB's
PC computer:
NANO 4000
Microscope assy:
R&R microscope stand and stage assy with focusblock
Stage addy with 6" capability
Microscope lamp
Optics 5x, 10x, and 50x (15x for UV)
Color monitor with keyboard
Optional:
8" wafer capability
Photomultiplier tube
Standard film type measured: / Typical range: / Typical repeatability:
Single layer films visible UV: / 500-50.000A, 25-500* / 2A
Triple layer films consult factory: / - / -
Single layer thick films visible: / 4 - 75 micron* / 1%
Double layer thick films consult factory: / - / -
Reflectance visible UV: / 400-850 run, 200>400nm / 0.4%, 0.2%
Oxide on poty UV: / 150-10.000A / 2A
Oxide on metal visible UV: / 3,000-20,000*, 500-5,000A / 3A, 3A
Double layer films visible:
Top layer / 100-30.000A / 2A
Bottom layer / 100-10.000X / 8A.
ナノメトリクスNanoSpec 4000は、お客様の半導体製造プロセスを完全にカバーするように設計された強力なマスクおよびウェハ検査装置です。最先端の光学イメージング技術を活用し、ナノスケールの精度と再現性を提供し、比類のない精度とスピードでウェーハやマスクの検査を可能にします。このシステムは、2ミクロンから2ミリメートルの範囲のデバイスを検査することができ、サイズが10 nmまでのサイズの特徴を検出して測定するようにプログラムすることができます。NanoSpec 4000の中核には、パターン認識アルゴリズムを使用して個々のレイヤーのレイアウトを検査し、目的のレイヤーと実際のレイヤーを比較する自動マスクおよびウェーハ検査サブシステムが装備されています。このユニットは、非常に精度と再現性の高い最小のフィーチャーサイズを検出することができ、その自動光学系は、パターンの所望の領域だけを選択的に評価するために高速で高精度な画像処理を可能にします。ナノメトリクスNanoSpec 4000はまた、高度な測定機能を提供し、複数の表面トポグラフィーパラメータをキャプチャ、保存、分析、解釈することができます。ナノスケール精度を使用して、高精度の表面測定、最小/最大値、および表面粗さの可能性を生成することができます。この利点は、垂直測定と水平測定の両方に広がり、製造メーカーがウェーハまたはマスク設計内で発生する問題を正確に測定および診断するのに役立ちます。高度な画像補正と画像解析機能により、マスクとウェーハの正確なアライメントが可能です。また、真の色の輝きにより、出力された画像が明るく正確な色になるようになります。統合されたデータ入力、ハードウェア/ソフトウェアテストプログラミング、キャリブレーション機能、およびさまざまな専門的な分析およびレビューツールが利用できます。NanoSpec 4000は、今日の高精度製造環境の品質管理と検査ニーズを満たすように設計されています。精度と再現性の比類のない組み合わせは、高度なイメージングおよび測定機能と組み合わせて、半導体の生産がピーク効率で実行されていることを確認するために必要な保証を提供します。
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