中古 NANOMETRICS NanoSpec 4000 UV #9077092 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 4000 UVは、高度なレーザーベースのイメージング技術と高度なアルゴリズムを統合したインライン欠陥検出用に設計された高精度のマスクおよびウェハ検査装置です。従来のイメージングシステムと比較して優れた精度を提供し、製造プロセスにおける信頼性と再現性の高い結果を保証します。このシステムは、同じ周波数で動作する256チャンネルを備えた自動マルチチャンネル検出ユニットを使用して、マスクとウェーハの検査を統合できます。これにより、さまざまな半導体材料の腐食や欠陥などを同時に検出することができます。NanoSpec 4000 UVは、高解像度イメージング、5 μ mの欠陥分解能、最適な画質のための高解像度ステッチなどの高度な機能を提供します。さらに、NANOMETRICS NanoSpec 4000 UVは、高性能オートフォーカス光学装置を備えており、サンプルと画像キャプチャツールの間の適切なアライメントとフォーカスを保証するため、欠陥をはっきりと見えて検査できます。さらに、統合されたレーザースキャン表示アセットは、ディープズームインおよびズームアウト機能を提供し、迅速かつ高解像度のイメージングを可能にし、欠陥を迅速に識別するのに役立ちます。高度なUV照明モデルは、欠陥のない部品と欠陥部品のコントラストを最大化するために最適化された多波長バックライトを提供することができます。これは、検出された欠陥が明確かつ正確に見えるようにするのに役立ち、マスクとウェーハの広範かつ徹底的な検査を可能にします。さらに、高精度のオートフォーカス装置を搭載し、欠陥の精密かつ正確な解析を可能にし、検査の精度をさらに高めています。さらに、NanoSpec 4000 UVにはユーザーフレンドリーなソフトウェアも搭載されており、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えており、操作が簡単で効率的です。また、ネットワーク機能と通信機能を内蔵しており、機械への安全でリモートアクセスをサポートし、リモート監視と調査を容易にします。また、このツールにはフラットパネルディスプレイが内蔵されており、欠陥をすばやく目視で検査できます。最後に、この資産は、過酷な環境でも高い寿命を提供するために、堅牢で信頼性の高いボディで設計されています。NANOMETRICS NanoSpec 4000 UVは、先進的なマスクおよびウェーハ検査モデルであり、生産環境において高精度な方法で目に見えない欠陥を確実かつ正確に検出します。マルチチャネル検出、高解像度イメージング、オートフォーカス最適化などの高度な機能を備え、インライン欠陥検出のための最高レベルの精度を提供します。