中古 NANOMETRICS NanoSpec 3000 #9386854 を販売中
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ID: 9386854
ウェーハサイズ: 3"-6"
ヴィンテージ: 2001
Film thickness measurement system, 3"-6"
Solid stage linear diode array detector
(15) Standard film types
Measurement time: 0.25 sec to 4 sec
Statistical data analysis
Data export (ASCII)
Optics: 10x
Spot size: 25 μm
Computer: 333 MHz
Hard dive: 3.2 G
RAM: 64GB
Film: (3) Layers
Film thickness range: 250 A to 35 µm
Wavelength range: 480-800 nm
Reproducibility: <2 A
Lamphouse: 50 W
Power supply:
117±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A
230 V, 50/60 Hz, 2.5 A
2001 vintage.
ナノメトリクスNanoSpec 3000マスクおよびウェーハ検査装置は、マスクおよびウェーハの特徴サイズと金型特性を正確に評価するために設計された高度な高解像度検査システムです。新製品の研究開発、および集積回路の製造に使用されます。NanoSpec 3000は、マスクやウェーハ上のサブミクロン構造を調査するために設計された、高解像度の画像取得および信号処理ユニットを備えています。このマシンには、数ミクロンから数百ミクロンのサイズの画像領域を迅速に分析することができる自動ビジョンツールが含まれています。さらに、75°、60°、45°など、さまざまな角度から画像をスナップすることができ、検査対象の完全な視覚的な画像をユーザーに提供します。NANOMETRICS NanoSpec 3000は、他の検査システムとは異なり、試験片をx、 y、 z方向に移動して正確な測定を行うことができる精密視野変位段も備えています。これにより、ユーザーは手動で正確な測定データを調整および抽出し、不規則な機能のためにダイ全体を分析することができます。アセットには、非破壊的なウエハテストと分析を行う能力もあります。リアルタイムイメージングと複数のリージョンを使用して、さまざまなウェーハ構造やコンポーネントのデータにすばやくアクセスしてレビューすることができます。このプロセスは、設計を中断することなく、試験中のウェーハ上の任意の局所欠陥および/または収差の完全性を評価するのに役立ちます。NanoSpec 3000は、デジタル光学法を使用して臨界寸法(CD)を分析するための高速リアルタイム処理モデルも備えています。さらに、ICのサブサーフェス画像を取得したり、光放射顕微鏡を使用したり、スペクトル測定を利用してディスプレイパラメータを分析したり、フィルムやプロセスパラメータによって引き起こされるスペクトル変化をテストしたりできます。最後に、マスクおよびウェーハ検査装置は、テスト中に生成されたデータのレポートも生成します。これは、プロセスのトラブルシューティングと生産プロセスの全体的な歩留まりの改善に役立ちます。要約すると、NANOMETRICS NanoSpec 3000は、マスクとウェーハの両方に完全な視覚分析を提供できる強力な検査システムです。これには、自動ビジョンユニット、精密ビジョン変位ステージ、非破壊検査および分析、高速リアルタイム処理機などの機能が含まれています。これらのすべての機能を組み合わせることで、NanoSpec 3000は、マスクやウェーハのフィーチャーサイズとダイ特性を正確に評価するのに理想的な選択肢となります。
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