中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 #9374756 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec 210は、精密かつ正確な欠陥検出と特性評価のための高度なイメージング技術を利用した、最先端のフルフィールド光学マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、位相シフト干渉計（PSI）に基づいた高度な光学検査ユニットを使用しています。この干渉計は、複数のレーザー光源と独自の象限ミラーリングマシンを使用して、完全にコヒーレントな光ビームを生成し、検査対象のマスクまたはウェーハに向けます。このツールは、サンプル表面の変動や欠陥を正確かつ正確に測定し、非常に正確なスキャンと検査結果を得ることができます。また、マスクおよびウェーハ検査アセットは、大小の欠陥を検出して正確に測定するように設計された高度な画像処理および制御アルゴリズムを備えています。これらのアルゴリズムにより、モデルは深い欠陥と浅い欠陥の両方を正確に検出してマッピングし、潜在的に損傷する欠陥を見落とさないようにします。さらに、これらのアルゴリズムは、従来の検査システムと比較して優れたマスクおよびウェーハアライメント機能も提供します。ナノメトリクスNANO SPEC 210は、800万画素を超える欠陥の正確な測定を可能にする高度なデジタル画像処理技術を備えています。この画像解像度により、現場で高い忠実度の検査を行うことができ、処理や是正措置を講じる前に潜在的な欠陥領域を迅速かつ正確に特定することができます。NanoSpec 210には、ダイナミックコントラスト制御、イメージコントラストの自動制御、オペレータの介入を最小限に抑える半自動検査機能など、他にもいくつかの機能があります。さらに、マシンはまた、均一で反復可能なデータの迅速な収集を可能にするフルフィールド自動画像ステッチをサポートしています。これにより、ツールは潜在的な欠陥の場所をすばやく特定することができます。結論として、NANO SPEC 210は、最先端のイメージング技術、デジタルイメージ処理、高度なアルゴリズムを活用して、最小の欠陥でも正確に検出する高度なマスクおよびウェーハ検査資産です。ダイナミックコントラスト制御やフルフィールド自動イメージステッチ機能など、このモデルの高度な機能により、優れた検査結果が得られ、生産コストが大幅に削減されます。