中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 #9372725 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 210は、マスクやベアウェーハの欠陥を測定および分析するために設計された包括的なマスクおよびウェーハ検査装置です。光源に高出力のLEDアレイを採用し、金属マスクやウェーハなど多種多様な基板を明るく照らすことができます。NANOMETRICS NANO SPEC 210には、高品質の5メガピクセルCCDカメラとフィールドストップを内蔵したテレセントリックレンズが搭載されており、最大2。5 μ mの解像度でウェーハ機能を正確に測定および検査できます。このユニットには、欠陥を測定および分析するためのカスタム機能を備えたフル機能の計測ソフトウェアパッケージと、正確さと再現性を確保するためのキャリブレーションユーティリティが含まれています。NanoSpec 210は、レーザー駆動イメージシャープニング（LIS）技術、独自のパターン認識アルゴリズム、高速欠陥検出機を使用して、パターン化されたマスクの最深部にある欠陥を迅速かつ正確に特定します。このツールは、単一の測定で欠陥を自動的に分析してグループ化し、測定精度を向上させるだけでなく、自動レビューコンテンツの深さの設定を提供することができます。高感度のアルゴリズム欠陥解析エンジンにより、自動欠陥リストファイルを瞬時に生成および分析でき、マスクやウェハの修復、クリーニング、最適化のための強力な画像処理エンジンを備えています。このモデルの高度なイメージングと解析機能は、欠陥の特定と分析だけではありません。接触穴欠陥、ダイサイズ、形状、トレース、導電層などを幅広く解析できます。このソフトウェアを使用すると、サイズ、フォーム、信号、背景などのパラメータを使用してさまざまなラベルをすばやく検索および比較でき、ピッチ、線幅、フィーチャーサイズ、オーバーレイ、グレースケールなどのさまざまなプロセスパラメータを測定、分析、ログ化できます。さらに、NANO SPEC 210は、さまざまな画像強化パラメータを素早く生成し、困難な測定をサポートすることができます。NANOMETRICS NanoSpec 210は、半導体製造工場などの過酷な環境で使用するために設計された、堅牢性の高い装置です。このシステムは、ノイズや振動を発生させずに動作できる、エネルギー効率に優れたファンレス設計で設計されており、耐久性の高い構造により、幅広い環境条件での動作が可能です。また、既存設備との統合が容易な設計となっており、既存の生産ライン内でのシームレスな運用が可能です。直感的なユーザーインターフェイスと動的な可視化と分析機能により、業界をリードする生産設備の品質管理と歩留まり最適化に最適です。