中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 #9256979 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 210は、半導体の設計とリソグラフィの専門家が、最も要求の厳しいアプリケーションで最高レベルの精度と信頼性を達成するために設計された強力なマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、高度なビームプロファイリング、共焦点顕微鏡、オーバーレイ計測などの幅広い検査機能と、業界トップレベルの自動化を組み合わせて、今日の高度なデバイスに最高のパフォーマンスのイメージングを提供します。NANOMETRICS NANO SPEC 210の中核には、高解像度の5軸ステージユニットが搭載されており、作業面全体で正確に制御できます。このステージでは、最大300mmのウェーハをサポートし、最大0。45mm/秒のXY速度を実現します。また、1664 x 1044 シリコンCMOSイメージセンサーと10x還元光学素子を組み合わせた高度なイメージングエンジンを採用し、高速で高解像度のイメージングを提供しています。このツールのビームプロファイリング機能は比類のないもので、光の発生角度と拡散を測定および特徴付けるための幅広いツールがあります。例えば、このアセットは、スキャン中にビームのサイズをより正確に調整できる可変アイリス機能と、コントラストを低減しノイズを低減する偏光照明機能を備えています。NanoSpec 210は最先端のオーバーレイ計測機能も備えており、高度なリソグラフィ機能に関連するアライメントやオーバーレイエラーを測定できます。最大15ミクロンの測定範囲と、シフトとエラーを自動的に識別できる機能認識アルゴリズムを備えたこのモデルは、アライメントとオーバーレイ計測を容易にします。さらに、高解像度の共焦点顕微鏡を搭載し、従来の顕微鏡の解像度をはるかに超えた特徴サイズ、性質、形状を測定することができます。この高精度な画像処理技術は、サブミクロンの構造や特徴を正確に測定するために使用でき、ユーザーはわずかな偏差を検出することができます。全体として、NANO SPEC 210は、最も要求の厳しい半導体アプリケーションの厳格さを満たすように設計された強力なマスクおよびウェーハ検査システムです。堅牢なイメージングと測定機能を備えたこのユニットは、最高レベルの精度と信頼性を提供するのに最適です。