中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 #293827294 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec 210は、半導体マスクとウェーハの高精度、高解像度の3D測定を提供するマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高度な寸法特性評価のための高解像度平面測定と数値測定の両方を維持します。このユニットには、特許取得済みのレーザー干渉レベル（LIL）スキャナが組み込まれており、ユーザーはマスク構造、エッチング深さ、トランジスタゲート高さなどの測定に適した3Dイメージングおよび位置データを取得できます。NANOMETRICS NANO SPEC 210は、ゲートハイト、フィンサイズ、およびその他のマイクロエレクトロニクス部品などの非常に小さな機能の測定において、解像度と精度を向上させるために様々なステージで動作するように設計されています。精度と性能を向上させるため、輪郭位置とシリンダ位置の両方を容易に識別できる自動ウェハ認識機能を搭載しています。NanoSpec 210は、パターンウエハとマスクの両方のイメージングに適しています。NANO SPEC 210は、測定の精度と再現性を向上させる強力なオートメーションツールを備えています。丸みを帯びたサーフェス上の測定フィーチャーのための特別なアルゴリズムを使用して、複数のレイヤーのフィーチャーを迅速かつ一貫して見つけることができます。アセットには、プッシュボタン制御を備えています。データ解析のために、NANOMETRICS NanoSpec 210は、幅広いイメージングおよび統計解析技術をサポートし、有用なレポートに変換できるデータを生成します。さらに、画像処理技術を使用して、3Dウェーハおよびマスク画像のパターンおよびフィーチャー認識および補正を実行することができます。全体として、ナノメトリクスNANO SPEC 210は、高精度で複雑な構造を正確に測定するための貴重なツールです。強力なソフトウェアパッケージを統合して、3Dデータを迅速かつ反復可能に提供することで、ウェーハ製造業界で市場投入までの時間を大幅に短縮します。