中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 #150266 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 210は、半導体製造プロセスで使用されるマスクおよびウェーハの欠陥を検出するために設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高画質と高精度を保証し、誤報を最小限に抑え、効率を最大化します。NANOMETRICS NANO SPEC 210は2つのサブシステム上に構築されています。1つ目は、高解像度のフルカラー22メガピクセルCMOSセンサーと光学素子を提供する光顕微鏡モジュールです。複数のレイヤー機能を備えており、レイヤータイプを素早く簡単に切り替えることができます。内蔵のオートフォーカスユニットは、自動的にサンプル表面に数秒で焦点を合わせ、統合されたオートコリメータによって正確なサンプルアライメントが保証されます。高度な光学モジュールにより、トップダウンとボトムアップの両方のイメージングが可能で、手動操作にはオプションのマニュアルフォーカス機能が利用できます。2つ目は、最新の高度な画像処理アルゴリズムで高精度とスループットを実現したウェーハ検査機です。このツールは、幅広い光条件に対応するハイエンドのソリッドステートLED照明ソースと、高出力光学を使用して、鮮明で正確な画像を確保します。最大4.2MHzの高速スキャン速度により、NanoSpec 210は欠陥を迅速かつ正確に識別および分類することができます。NANO SPEC 210には欠陥分類アセットが内蔵されており、デジタル画像処理アルゴリズムを使用して欠陥を0。3 µmまで迅速に検査します。さらに、ディジタルマーキングモデルを統合してフラグ付けやラベル付けの欠陥を特定し、ワークフローとトレーサビリティを向上させます。また、直感的なユーザーインターフェイスとソフトウェアパッケージを備えているため、ユーザーはウェーハやマスクを素早く設定、分析、トラブルシューティングできます。あらかじめ定義されたパラメータを使用して自動イメージングが有効になり、ウェーハのバッチが検査されるとレポートが自動的に生成されます。全体として、NANOMETRICS NanoSpec 210は高度で正確なマスクおよびウェーハ検査システムであり、高速かつ正確で直感的なユーザーインターフェースと自動欠陥分類ユニットを提供します。これは、高品質の製品を確保しながら、生産時間を短縮するための信頼性と費用対効果の高いソリューションをユーザーに提供します。