中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 #142743 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 210は、さまざまなイメージング技術と検査方法を通じて、マスクおよびウェーハの自動および非破壊検査のために設計されたマスクおよびウェーハ検査システムです。NANOMETRICS NANO SPEC 210は、粒子検査や欠陥検査、層間統合のレビューなど、マスクおよびウェーハ検査のための包括的で繰り返し可能なソリューションを提供します。NanoSpec 210の性能は、高品質の光学系、動的画像補正、柔軟なイメージングモードとモダリティに基づいています。すべての表面欠陥および粒子は暗い分野で照らされ、抵抗の表面の真の共焦点の眺めは騒音を減らし、決断を改善するのに利用されます。ダイナミックな調整可能なウィンドウ、特殊なフィルタ、複数のコントラストとエッジの強化方法を組み合わせて画像処理を実現し、鮮明でクリアな画像を生成します。システムには複数の非破壊検査モダリティがあり、さまざまなマスクおよびウェーハ層にわたるパターンや欠陥を画像化およびレビューすることができます。自動登録アルゴリズムは粒子を検出し、正確に測定しますが、パターン後の欠陥検証により、ブリッジや傷などの不要な欠陥が正確かつ自動的に検出されます。NANO SPEC 210には、欠陥分類機能も自動化されています。ショートパンツ、開口部、切断部、接触穴、遷移などの欠陥タイプを識別し、検証用に注釈を付けます。ユーザー定義のルールを使用すると、誤った開閉、ブリッジング、およびノッチ欠陥を識別することができ、すべての欠陥が正しく特徴付けされ、正確にトレースされ、記録され、修正されます。ナノメトリクスNanoSpec 210は、CD-SEM、線幅測定、臨界寸法バリエーションなどの計測ソリューションも提供しています。定量的なCD分析は、クロスウェーハの異常とCDドリフトとCDの均一性の識別をさらにサポートし、レイアウトとプロセスの歩留まりを改善します。NANOMETRICS NANO SPEC 210のコンパクトで直感的な設計により、効率的なセットアップと操作が可能です。ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェイスは、さまざまなチュートリアルガイド、事前設定されたワークフロー、バッチ処理機能によって補完された、迅速でシンプルなナビゲーションを提供します。包括的なオンサイトインストールとトレーニングサービスも利用でき、顧客に完全なシステムサポートとサポートを提供します。