中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 #114973 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 210は、フォトマスクやウェーハの表面形状を監視するために設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。NANOMETRICS NANO SPEC 210は、最新のスキャニングトンネリング顕微鏡技術を使用して、欠陥検出と特性評価のための表面の正確な3次元イメージングを提供します。その光学システムは、マスクとウェーハ表面の高解像度画像を生成するように設計されています。NanoSpec 210は、位置決めとスキャンのための4つの石英ステージを備えたサンプルチャンバーで構成されています。最初の2段階は、サンプルをチャンバーにロードし、スキャンプローブを配置するために使用されます。次の2段階は、プローブでサンプルをスキャンするために使用されます。サンプルチャンバーには3つの光学窓があり、1つはサンプル用、2つは画像キャプチャ用です。NANO SPEC 210には、マスクやウェーハ表面の高解像度画像を撮影するための高解像度スキャニングトンネリング顕微鏡（STM）ユニットが搭載されています。このマシンは、サンプルの表面を移動し、高解像度の画像を生成するために非常に小さな先端を持つプローブを使用します。ナノメトリクスNanoSpec 210には、ユーザーがSTMスキャナの速度、方向、パワーを制御できるオンボード制御ツールがあります。NANOMETRICS NANO SPEC 210には、マスクやウェーハ表面の欠陥を検出する機能が組み込まれています。それは欠陥の自動検出のためのパターン認識アルゴリズムを持っています。このアセットには、ユーザーが画像を分析し、欠陥を検出するのに役立つさまざまな画像処理およびフィルタリング機能もあります。NanoSpec 210は、マスクやウェーハの検査に有効なツールです。その機能により、マスクとウェーハの両方の表面形状を迅速かつ簡単に監視し、欠陥検出と特性評価を行うことができます。その自動検出アルゴリズムと画像処理機能は、欠陥検出と特性評価の信頼性と精度を向上させるように設計されています。NANO SPEC 210は、マスクおよびウェーハ表面の監視および分析に有効なツールです。