中古 NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV #9105590 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 210 XP/UVは、自動アライメントと高解像度イメージングとユーザーフレンドリーなソフトウェアを組み合わせたマスクおよびウェーハ検査装置で、高速で操作が簡単です。このシステムは、さまざまなウェーハおよびマスク検査アプリケーションで使用できるように設計されており、優れた光学性能と柔軟性を提供し、幅広い分析要件に対応しています。このユニットは、ウェーハ、マスク、チップを検査するための大型の高解像度光学顕微鏡を備えています。顕微鏡は75mmのFOVと200倍までの調整可能な倍率を備えています。この光学系は、低収差で優れた画像鮮明性を提供するように設計されており、測定精度を向上させます。この顕微鏡はまた、14ビットのダイナミックレンジと優れた色感度を備えた5メガピクセルCMOSイメージングセンサーを備えています。ナノメトリクスNanoSpec 210 XP/UVはまた、最速かつ最も正確なイメージングのための高度なステージスキャニングマシンを提供しています。このツールは、3つの軸（X、 Y、 Z）のすべてで正確かつ同時に動作するように設計されたインデックス付き高速スキャンアセットを備えています。indexerモーターは最低の振動の速い動きのために設計されています：それは200mm/s上のスキャンの速度を提供して、40ミリ秒まで40mmまで動くことができます。NanoSpec 210 XP/UVには、ウェーハまたはマスクがモニター上の対応するパターンに正確に配置されていることを確認するための自動アライメントモデルも含まれています。これにより、複数の画像を異なる角度や場所で撮影しても、一貫したパフォーマンスが保証されます。また、データ記録機能を備えているため、ユーザーは画像や詳細な測定をコンピュータに保存して、さらなる分析と報告を行うことができます。ウェーハまたはマスク上の設計パターンを迅速かつ正確に測定できるようにするために、システムには精密分析用のOPM （Optical Proximity Measurement）ユニットが内蔵されています。OPM機械は正確な位置およびサイズの決定の100つの特徴まで測定できます。OPMツールには、最適なパフォーマンスを得るための高度なパターン認識アルゴリズムも含まれています。最後に、ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェイスにより、資産を簡単に制御し、複雑な操作を実行できます。ソフトウェアには、分析をカスタマイズするための包括的な設定とオプションが含まれており、ユーザーは設計パターン、欠陥などを迅速かつ正確に測定できます。全体として、NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UVは、高度なマスクおよびウェーハ検査モデルです。高解像度イメージング、高速スキャンステージ、正確なデータ記録により、さまざまなウェーハおよびマスク検査アプリケーションに優れた性能と柔軟性を提供します。