中古 NANOMETRICS NANOSPEC 200 #9407282 を販売中

ナノメトリクスNANOSPEC 200は、生産試験および研究用途向けに設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。高解像度のイメージング機能と、業界で最も要求の厳しい検査タスクの要件を満たす性能特性を組み合わせています。NANOSPEC 200は、マスクからウェハまでの検査機能、プログラム可能なスキャンステージ、ウェーハアライメント用の独自ソフトウェア、高度な信号処理技術、高解像度イメージングシステムを提供します。このユニットの高画像の忠実度と信号対ノイズ比により、正確なミクロンレベルの測定が必要な検査に最適です。NANOMETRICS NANOSPEC 200には、高解像度のステージとスキャンソフトウェアが組み込まれた先進的なイメージングマシンとオプティクスが含まれています。このツールは、5ナノメートルの画像解像度と5等級のダイナミックレンジを備えています。この画像処理アセットは、5ナノメートルの欠陥や形状を検出することができ、信号処理技術により、光学パラメータを1ピコメータまで高度に測定することができます。このモデルには、調整可能な波長と偏光フィルタが含まれており、ユーザーは特定のアプリケーションに最適なパラメータを選択できます。プログラム可能なスキャンステージは、さまざまなトラベルを提供し、高い精度と再現性を提供します。これにより、小型チップから大型ウェハまで、幅広いサンプルサイズと種類が可能になります。さらに、NANOSPEC 200はプログラム可能なサブ解像度モードを備えており、標準のイメージングモードでは見えなくても、より小さなオブジェクトをより正確に測定することができます。ソフトウェアには、欠陥解析ルーチンの包括的なライブラリと直感的なインターフェイスが含まれており、迅速かつ効率的な検査を保証します。さらに、ナノメトリクスナノスペック200には、ウェーハチャッキング用のリチウムニオベート（LiNbO3）と、温度制御およびドーパントの硬化用のベークイン（Bake In、 Bake Out）プラットフォームが組み込まれています。また、多波長検査用の電動砲塔を搭載し、複数のパラメータを同時に測定し、検査効率を最適化します。全体として、NANOSPEC 200は、研究および生産環境のニーズを満たすように設計された強力な機能の組み合わせを提供します。このシステムは、マスクやウェーハの検査作業に最適な高解像度イメージングと性能特性を提供します。