中古 NANOMETRICS NANOSPEC 200 #9097512 を販売中

NANOMETRICS NANOSPEC 200は、半導体製造用に設計された最先端のマスクおよびウェハ検査装置です。品質管理、欠陥解析、プロセス最適化のための高度なソリューションを提供します。このシステムは、主に生産監視および機器性能認定ツールとして使用されます。偏光干渉イメージングや分光楕円測定などの高度なイメージング技術を駆使し、ウェーハやマスクの表面特徴を解析します。最大200ナノメートルの解像度でウェーハを調べることができ、紫外線から赤外線までスペクトル全体で動作することができます。NANOSPEC 200は、高出力のLED光源を搭載し、ユーザーが高品質の制御基準を維持し、その性能を完全に最適化することを可能にする高度なソフトウェアが含まれています。幅広い半導体デバイスの品質管理検査や欠陥解析が可能です。特に、生産プロセスの最も困難な段階を特定し、分析するのに役立ちます。このツールの高度な2次元イメージングインフォマティクス機能により、ウェーハトポグラフィと欠陥の包括的な分析が可能になり、異なる材料、デバイス構造、および表面処理がどのように相互作用するかを詳細に調べることができます。ナノメトリクスNANOSPEC 200は人間工学に基づいた設計で、オペレータの疲労を最小限に抑え、生産性を最大化します。これは、歪みを最小限に抑え、完璧な並列結果を達成するための多角形スキャンアルゴリズムを含みます。さらに、アセットは使いやすく、ソフトウェアに直接リンクし、ユーザーに即座にフィードバックを提供する画面上の測定ツールが含まれています。このモデルは、個々の顧客の特定のニーズに応じて調整することができる幅広いオプションで高度にカスタマイズ可能であるという点でユニークです。これにより、最大限の柔軟性と費用対効果が保証されます。NANOSPEC 200は、安全運転を保証し、汚染や損傷のリスクを最小限に抑えるさまざまな安全機能を備えています。要約すると、NANOMETRICS NANOSPEC 200は、マスクおよびウェーハ検査のための非常に汎用性と信頼性の高い機器です。技術的および産業的用途に適しており、最高レベルの品質管理とパフォーマンスの最適化を提供することができます。