中古 NANOMETRICS NanoSpec 181 #9266797 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 181は、半導体マスクやウェーハを高精度に検査できるように設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高精度で再現性のあるクロマティックオーバーレイ測定（COM）技術を使用して、特徴サイズが0。2ミクロン以下のパターンを検査します。これにより、NanoSpec 181はフォトマスク、リソグラフィ、エッチング、CMPなどのプロセスに最適です。ナノメトリクスNanoSpec 181は、高解像度5。1メガピクセルカメラとクロマチックオーバーレイ測定を採用しており、256色のグレーと8次元のカラーを検査できます。これにより、欠陥を含むパターンのフィーチャーを幅広く可視化できます。このユニットは、欠陥を迅速に検出するための自動パターン認識機能と、微細な特徴を詳細に分析するために1。3nmにズームインする機能を備えています。このマシンには、面積と長さの測定、ストリンガー分析、プロセス分析などの包括的なフィーチャー分析機能も含まれています。これにより、実行中のプロセスのパフォーマンスを追跡するためのさまざまなカスタムレポートを生成できます。このツールはまた、層状欠陥検査と多層レビューをサポートしています。NanoSpec 181は、使いやすい堅牢で信頼性の高い資産です。これは、明確でナビゲートしやすいグラフィカルユーザーインターフェイスを利用しており、直感的な欠陥インスペクタツールを備えており、欠陥を迅速に診断および修正できます。このモデルには、エンジニアが欠陥の傾向を迅速にモデル化および分析し、是正措置を決定できるように設計された高度なデバッグ機能も含まれています。全体として、NANOMETRICS NanoSpec 181は、高解像度のマスクウェーハ検査アプリケーションに最適です。使いやすく、0。2ミクロンまでのサイズのマスクやウェーハの検査に最適な幅広い機能を提供します。それは信頼性が高く、プロセス関連の欠陥を減らし、高い製品品質と信頼性を確保するのに役立ちます。