中古 NANOMETRICS NanoSpec 181 #63433 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 181は、幅広い半導体製造アプリケーション向けに設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。ナノスケール分解能で高精度な画像処理を実現するために、さまざまな画像処理システムと光学システムを組み合わせた独自の画像処理システムを採用しています。1nm （1ナノメートル）の精度と精度で光学測定を行います。NanoSpec 181は、ウェーハステージと6軸モーションコントロールと優れた安定性を提供するユニークなヘキサポッド位置決め機を備えています。これにより、高精度のサンプルアライメントが可能になり、測定精度が一貫して再現可能になります。NANOMETRICS NanoSpec 181のイメージングサブシステムは、長距離の2レンズ光学系に基づいており、3Dイメージングに最適です。ステージの移動中にサンプルの画像をキャプチャする高解像度ラインスキャンカメラを搭載し、ステップとスキャン技術を使用しています。画像はリアルタイムでステッチされ、詳細な3Dマップが作成されます。ラインスキャンカメラは、最高フレームレートとダイナミックアライメントを提供します。NanoSpec 181はマクロ検査モードも備えています。これにより、各ウェーハの広い領域を同じレベルのディテールで体系的にスキャンすることができ、表面構造を完全に理解できます。欠陥検出、オーバーレイ測定、ウィスカ検出など、いくつかのモード操作が可能です。ナノメトリクスNanoSpec 181を使用すると、半導体デバイスのさまざまなレイヤーから必要なデータを迅速かつ正確にキャプチャできます。結果として得られた画像とデータを可視化し、保存し、その後、プロセスの最適化とデバイスの歩留まり向上に利用することができます。このツールは使いやすく、データの精度、精度、再現性の非常に高いレベルを示すのに理想的です。NanoSpec 181は、高度なイメージングアセット、革新的なメカニクス、直感的なユーザーインターフェースを組み合わせることで、産業用半導体製造において正確で再現性のある結果をもたらす理想的なモデルです。