中古 NANOMETRICS NANOLINE CD 50 #9166570 を販売中

NANOMETRICS NANOLINE CD 50は、高度な半導体生産ラインのニーズを満たすように設計された次世代マスクおよびウェーハ検査装置です。光学、センサ、イメージング、オートメーションの最新の進歩により開発されたこのシステムは、さまざまなアプリケーションに迅速で信頼性の高い正確な検査および計測を提供することができます。基本的なアーキテクチャの観点から、NANOLINE CD 50は、最先端のZeiss光学顕微鏡、Relionマイクロプロセッサ、および産業用ロボットを備えた完全自動化、PC制御、自己完結型の検査ステーションです。工業グレードのリニアステージにより、ウェーハの高精度な位置決めが可能で、各デバイスを正確にスキャンできます。さらに、ウエハーは直径5インチまで、1回に最大4つの基板をイメージングすることができ、1時間あたり最大40基板のスループットを実現します。このツールの高度なイメージングコンポーネントは、デバイスの高解像度検査を保証します。Zeiss顕微鏡は14mm x 10mmの視野を備えており、73nmのピクセルサイズの画像を提供します。強化されたCCDカメラは、最大4,800万画素の解像度でウェーハの画像を同時にキャプチャし、非常に高い画質を実現します。NANOMETRICS NANOLINE CD 50の画像解析アルゴリズムは、特徴認識、画像セグメンテーションおよび分類、色、およびコントラスト解析に基づいています。このアセットは高度なパターン認識と特徴分類も可能で、ビア、コンタクト、その他のナノスケール構造などの複雑なパターンを正確に検査することができます。効率を改善するために、NANOLINE CD 50はより大きい自動化されたモデルに統合することができます。さらに、機器は他のシステムやデバイスと通信し、インターネットや他のネットワークを介してデータや結果を転送することができます。このシステムは、Windows、 Linux、 Mac OS Xなどのさまざまなオペレーティングシステムと互換性があります。全体的に、NANOMETRICS NANOLINE CD 50は、高度な半導体製造のための正確で迅速で信頼性の高い検査および測定を提供するように設計された高度で洗練されたマスクおよびウェハ検査ユニットです。最先端のZeiss顕微鏡から高度な画像解析アルゴリズム、バリューチェーン自動化との互換性まで、NANOLINE CD 50は、信頼性の高い正確なマスクおよびウェーハ検査を必要とするあらゆるアプリケーションに最適なソリューションです。