中古 NANOMETRICS NANOLINE 50-2/50-2C #9101475 を販売中

ナノメトリクスNanoLine 50-2および50-2Cは、高性能の自動マスクおよびウェーハ検査システムです。最大2000mm × 2000mmアレイサイズの200mmウェーハ用に設計されています。装置はパターン欠陥、粒子の汚染およびフォトレジスト材料のための高解像度CCDのカメラが付いているウェーハを点検できます。このシステムは、完全なフルチップイメージを短時間で生成することができます。画像は、拡散限界パーフォーカル目標または独自のワイドステップパターンによって作成され、高解像度の大判充電結合デバイス（CCD）カメラとレーザーライン投影ユニットに提供されます。また、このマシンは高度なStereoDetectionアルゴリズムを提供しています。このアルゴリズムは、最も困難な計測課題における細部、攻撃的な欠陥、およびスパーンする欠陥を検出することができます。NanoLine 50-2と50-2Cは、ウエハから細かいパターンの詳細を抽出することができる画像処理ツールを内蔵しており、欠陥分類と出力レポートを自動化しています。このアセットは、近赤外線（NIR）と光学イメージングの両方を見ることができます。さらに、低トポグラフィー領域の検査を可能にする3D機能で構成することもできます。NanoLine 50-2/50-2Cは、高い再現性と長期的な精度を提供するように設計されています。加速度計とダイナミックバランス装置を備えた高速な再配置モデルを使用して、時間の経過とともに正確な画像アライメントを確保します。このマシンは、3ローラー独立軸で動作し、最大2000 mm × 2000 mm/秒でスキャンできます。システムのコンポーネントは、高品質の画像とパフォーマンスを確保するために、堅牢で柔軟性のない、メンテナンス可能な材料で構成されています。また、カメラセンサー、レンズ、照明のバリエーションを補正できる独自のNANOMETRICSアルゴリズムによって校正されています。このマシンは、強力で使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）によって制御されます。GUIは完全にカスタマイズ可能で、高度なツールオートメーションやレポート機能などの機能を備えています。また、最も一般的に使用されるEDAまたはCADソフトウェアとも互換性があり、プロセスフローへの統合が容易になります。NANOMETRICS NanoLine 50-2および50-2Cは、計測アプリケーションにおいて最高品質の結果を保証するように設計されています。高解像度画像、正確な欠陥検出、および反復可能な性能により、半導体欠陥の検出、光学リソグラフィ、太陽電池パネル検査などのアプリケーションに最適です。高度な機能とツールの直感的なGUIにより、大量の生産環境と研究環境の両方に最適です。