中古 NANOMETRICS NANO8000X/SE #9137089 を販売中

NANOMETRICS NANO8000X/SEは、マスクおよびウェーハ検査装置です。光学、物理学、データ解析、イメージング技術の最新技術を組み合わせて、最も洗練されたマスクとウェーハを検査するための強化された均一な機能を提供します。このシステムは、充填されたフォトマスクからダイおよび完成ウェーハまで、半導体デバイスの完全な分析を提供するように設計されています。検査ユニットには、VISまたはNIR範囲で動作するように設計されたレーザー光源が装備されています。このマシンはまた、フォーカスと回転機能を備えたモーター式の検査ヘッドを備えています。これにより、パターン化されたマスクまたはウェーハをナノメートルサイズのステップで迅速かつ正確に分析できます。NANOMETRICS NANO8000X/SEには、特殊なイメージング光学チャンバーと、マスクおよびウェーハパターンの各データを正確にキャプチャして正確に分析する独立したデータ分析ツールが含まれています。NANOMETRICS NANO8000X/SEは、高度な光学アルゴリズムを使用して高解像度の欠陥検出を行い、フォトマスク、ウェーハ、半導体デバイスの欠陥を識別し、特性評価することができます。さらに、ユーザーはパターン認識技術を使用して重要なデバイス機能をすばやく識別して測定することもできます。さらに、このツールの精密な測定ツールは、サブナノメーターの機能を検査することができ、複雑なデバイス設計の幅、間隔、深さなどの機能を正確に測定することができます。NANOMETRICS NANO8000X/SEは、イメージング、オートメーション、データ分析のすべての機能を単一のプラットフォームにパッケージ化し、統合された製造環境に適しています。この資産は非常に高速で正確であり、大容量の生産ニーズを満たすように特別に設計された最適化された構成で構成されています。ユーザーは、半導体デバイスの設計とコンポーネントのさまざまな組み合わせをテストするために、モデルを迅速かつ簡単に構成することができます。さらに、内蔵のQA/QCツールを使用すると、テスト結果を迅速かつ正確に追跡およびレビューできます。NANOMETRICS NANO8000X/SEは、その高度な技術のおかげで、最も要求の厳しいアプリケーションのための理想的なマスクとウェーハ検査装置です。システムの強化されたイメージング機能により、ユーザーはサブナノメートルレベルまでの欠陥を特定して測定できます。また、高度なパターン認識機能により、最も複雑なデバイスやコンポーネントの機能を検出して特定できます。このユニットの包括的なオートメーション機能により、手作業での作業時間が短縮され、高速な処理速度により、非常に効率的なテストと検査が可能になります。このマシンは、これらのすべての機能を洗練されたコンパクトなプラットフォームでパッケージ化し、最も要求の厳しい生産環境のニーズを満たすことができます。