中古 NANOMETRICS Nano 215S #9250105 を販売中

NANOMETRICS Nano 215Sは、高精度で信頼性の高い高解像度イメージングを可能にする高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。優れた画質、洗練された自動検査、直感的なオペレータインタフェースにより、幅広い半導体デバイス用途における歩留まりの向上と欠陥の低減に役立ちます。一般的に、このマスクとウェハ検査ユニットは、サンプルのデジタル画像をキャプチャし、画像内のパターンや異常を識別するために自動検査を実行することによって動作します。そのモジュラー設計は、ブライトフィールド顕微鏡、ダークフィールド顕微鏡、レーザーマイクロメトリー、SEM、赤外線など、さまざまなイメージングおよび検査機能を提供します。また、AIによるパターンマッチング、画像比較、シグナル・ツー・ノイズ解析、欠陥分類など、さまざまな技術を取り入れています。Nano 215Sの主な特徴は、高度なセンサー、イメージング光学、ソフトウェアです。解像度は最大0。4 µmです-業界で最も高いものの1つです。CCDやsCMOSを含むセンサーは、最大5メガピクセルの画像を高いダイナミックレンジと感度でキャプチャできます。光学および顕微鏡は、ブライトフィールドおよびダークフィールド・モードからレーザー・マイクロメトリーによる3Dイメージングまで、ビデオイメージングを提供します。マシンのソフトウェアは、視覚的に直感的でユーザーフレンドリーです。さまざまな自動検査機能を備えており、アライメントパターン、欠陥、寸法偏差、材料のバリエーションなどを識別できます。AIベースのアルゴリズムにより、欠陥の分類と報告、およびカスタムのノウハウと機能の複雑なパターン認識が可能になります。ユーザーフレンドリーなGUIにより、ユーザーはさまざまな操作の検査を迅速かつ簡単に構成できます。全体として、NANOMETRICS Nano 215Sは、優れた画質、洗練された自動検査、直感的なユーザーインターフェースを提供する高度なマスクおよびウェーハ検査ツールです。モジュール設計と高度なイメージングおよび検査機能により、歩留まりの向上と欠陥の低減が可能となり、半導体デバイス試験プロセスに付加価値をもたらします。