中古 NANOMETRICS Nano 215S #9226644 を販売中

NANOMETRICS Nano 215Sは、3次元（3D）イメージング技術を使用した高性能マスクおよびウェーハ検査装置です。半導体ICデバイスの製造プロセス向けに設計されており、複数のサンプルビューカメラと強力なLED光源を備えているため、欠陥と特性評価の正確な高速3Dイメージングが可能です。Nano 215Sには、大きな欠陥サイズをキャプチャして分析することができる高速外部ビジョンシステムも含まれています。このマスクおよびウエハ検査技術は信頼性が高く、1メートルの解像度で欠陥の詳細な3次元イメージングを提供します。これにより、マスクやウェーハの欠陥を検査する際の精度と再現性が向上します。統合された欠陥検証および事前分析ソフトウェアにより、洞察時間が短縮され、直感的なユーザーインターフェイスによりワークフローが強化されます。NANOMETRICS Nano 215Sは、精密3Dイメージングに加えて、広い視野（FOV）カメラを備えており、カバレッジ領域を広げて1mm以上の欠陥を観察し、迅速に検出することができます。Nano 215Sは、サンプリング速度と精度を向上させる複数の波長検出ユニットも備えています。他の機能には、複数のデータストリームを同時にキャプチャできる非同期観測機と、さまざまな情報に適応的に焦点を合わせるオートフォーカスツールがあります。NANOMETRICS Nano 215Sは、ウェーハとマスクCD -SEMの両方のパフォーマンスを提供します。異なった材料のさまざまな欠陥のサイズを特徴付け、測定することができます。これらの異なる欠陥のリアルタイム解析と検出を提供し、オンザフライ解析に使用される光学および走査型電子顕微鏡（SEM）戦略を使用します。Nano 215Sには、ウェーハ操作ツールと自動サンプリング機能が自動化されており、均一なウェーハのサンプリングと処理が可能です。アセットは、その使用に固有のアプリケーションに合わせてカスタマイズ可能で、接続されたワークフローのためにサードパーティマシンとインターフェースすることができます。高速イメージングにより、スループットを向上させ、スキャンおよび分析タスクを迅速に実行できます。NANOMETRICS Nano 215Sは、高精度で迅速な欠陥検出と特性評価を実現する、費用対効果の高い高性能マスクおよびウェーハ検査モデルです。広いFOVカメラと複数の波長検出装置を組み合わせた強力な3Dイメージング機能により、不良解析の精度と再現性が向上し、問題を迅速に正確かつ効率的に特定して修復することができます。