中古 NANOMETRICS M6100UV #9239646 を販売中

NANOMETRICS M6100UVは、高精度マスクおよびウェーハ検査装置です。高度なイメージングオプティクスと強力な信号処理を組み合わせて、マスクやウェーハの欠陥を迅速に分析し、ユーザーフレンドリーなソフトウェアと包括的なデータベースツールによって制御される自動ジョブ実行シーケンスを備えています。システムの光学光学系、モーションコントロールシステム、アルゴリズムは、優れた検出性を提供し、M6100UVはさまざまな検査アプリケーションに理想的なソリューションになります。NANOMETRICS M6100UVは、赤色と緑色のLEDを基にしたフルフィールドイルミネーションで、欠陥インデックス作成用の赤外線チャンネルを備えています。カメラは4k解像度でサンプル表面から画像を取得し、最大180 mmの視野を提供します。適応速度と解像度でサンプルを移動させることができ、迅速な処理と正確なスキャンアライメントを可能にします。ポイントツーポイントミラーのアライメントにより、ユニットはスキャン範囲全体にわたるナノスケールの欠陥を正確に検出できます。このマシンは、自動表面検査、イメージロギング、自動取得とインデックス作成、欠陥分類、動的マスク検証など、多くの検査プロセスを実行します。これにより、ユーザーは従来のアプローチよりも強力な多種多様な特殊欠陥解析技術を実装することができます。さらに、M6100UVは、複数のデバイスサイズマスク、多色マスク、バイナリマスクとグレースケールマスク、パターン化されたウェーハなど、さまざまなマスクタイプをサポートしています。この検査ツールは、完全な欠陥解析のための高度な信号処理と自動マスク検証アルゴリズムを備えています。独自のコードスキャン技術により、微細な欠陥を高精度で検出、比較、分類することができます。NANOMETRICS M6100UVには、ユーザーが簡単にジョブを設定して監視することができる高度なユーザーインターフェイスが装備されています。結論として、M6100UVは最高の視野の速く、正確なイメージを提供する高度のマスクおよびウェーハの点検資産です。一連の特殊機能とアルゴリズムを備えているため、ユーザーは非常に正確に包括的な欠陥解析を実行することができます。このモデルはさまざまな検査アプリケーションに適しており、欠陥の検出、比較、分類に完全で信頼性の高いソリューションを提供します。