中古 NANOMETRICS M6100A #9243269 を販売中

NANOMETRICS M6100A Mask&Wafer Inspection Equipmentは、増加するウェーハおよびマスク検査業界のニーズを満たすように設計された、多才で強力な精密検査ツールです。M6100Aシステムは、ウェーハやマスクパターンの検査に高解像度レーザーイメージングユニットを採用し、ミクロンレベルの解像度を実現しています。この機械は、壊れたワイヤや欠落した接点などの非常に小さな欠陥を費用対効果の高い方法で検出することができます。NANOMETRICS M6100Aツールには、光学ズームや強化されたグラフィックス機能など、さまざまなオプションと機能があります。このアセットは、さまざまなマスクおよびウェーハ技術アプリケーションの要求に応えるように設計されており、ユーザーは可能な限り最高の画質を迅速かつ正確に得ることができます。透明・不透明のレイヤーなど様々な素材で動作可能で、直接・間接両方の検査に対応しています。M6100Aにより、2つの4メガピクセルカメラは、スムーズな動作と最大機器精度を確保するために、大きく、薄型、軽量、ステンレススチールフレームの後ろに取り付けられています。LEDバックライトはイメージコントラストを高め、結果と信頼性を向上させます。NANOMETRICS M6100Aシステムは、これらの機能に加えて、欠陥検査や3次元（3D）画像生成などの高度なオフライン機能を備えています。これにより、マスクパターンを見直し、欠陥を迅速かつ簡単に検出することができます。このユニットはまた、複数のソースからのデータを補間することができ、見づらい欠陥を識別して特定することが容易になります。さらに、M6100Aマシンは、インテリジェントパターン認識アルゴリズムを使用して自動欠陥検出を提供し、必要に応じて手動パラメーターを入力します。自動化された欠陥検出は、マスクパターンレビューに関しては一貫したパフォーマンスを保証しますが、手動パラメータエントリを使用すると、より微妙な欠陥を特定するために検索基準をカスタマイズできます。このツールは、さまざまなソフトウェアおよびCADシステムと統合されているため、ユーザーはソースファイルから直接データにアクセスし、検査プロセスを合理化することができます。NANOMETRICS M6100A Mask&Wafer Inspection Assetは、他の検査システムに欠陥があるマスクやウェーハの欠陥を検出できる高度な高解像度検査ツールです。ユーザーに高品質な結果を得るためのコスト効率の高い手段を提供し、多種多様な機能を提供し、マスクやウェーハパターンの検査と検証に最適です。