中古 NANOMETRICS CD-50-2 #9123936 を販売中

ID: 9123936
ヴィンテージ: 1999
CD control systems Measurement : (1) Nanometrics microscope with trinocular head Isolation stand Eyepieces: WHK 10X/20L Objectives: Ms plan 5X/0.13 Ms plan 20X/0.46 ULWD Ms plan 50X/0.55 X-Y-Z stage Computers (7) video camera Computer controlled scanning photometric microscope instrument Designed for measuring line widths Gaps and registration alignment Effective measuring range: 0.5 to 125.0 microns Stage X-Y movement: 4" x 4" Scan time of less than 5 secs Voltage: 115V Power: 50/60 Hz 1999 vintage.
NANOMETRICS CD-50-2は、マスクおよびウェーハメーカー向けに設計されたハイエンドマスクおよびウェーハ検査システムです。マスクとウエハメーカーに業界で類を見ない精度と精度を提供するように設計されています。精密な光学系、高度な画像処理、ナノスケールの精度により、CD-50-2はマスクやウェーハのメーカーに比類のないレベルの品質管理を提供することができます。NANOMETRICS CD-50-2は、異なる波長の光を発する5つのレーザーモジュールの配列を利用しています。これらのレーザーは、マスクとウェーハの欠陥をナノメートルスケールで検出するように設計されたユニークな光学システムと組み合わされています。CD-50-2は、個々のマスクやウェーハの特徴から原子まで、微細な欠陥を正確に測定し、サブサーフェスの欠陥を確認することができます。NANOMETRICS CD-50-2には強力な画像処理アルゴリズムが搭載されており、欠陥を最も見づらい場合でも検出することができます。この強力なアルゴリズムは、マスクやウェーハ材料にあるかどうかにかかわらず、すべての欠陥の位置と大きさを正確に決定することができます。高精度の光学・画像処理機能に加え、マスク・ウェーハ素材・仕様の総合データベースをCD-50-2しています。これにより、NANOMETRICS CD-50-2は、検査を依頼されたマスクまたはウェーハの特性を正確に決定し、その結果について詳細なレポートを生成することができます。CD-50-2はマスクおよびウェーハの点検分野に強力な付加です。高精度の光学・画像処理機能により、最小の欠陥を検出することができ、マスクやウェーハ材料の総合データベースにより、特性を正確に把握し、その結果について詳細なレポートを作成することができます。NANOMETRICS CD-50-2は費用対効果が高く、最高品質の製品を探しているマスクとウェハメーカーにとって理想的な選択肢です。
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