中古 NANOMETRICS Caliper Mosaic #9411495 を販売中

ID: 9411495
ヴィンテージ: 2010
Overlay control system 2010 vintage.
NANOMETRICSキャリパーモザイクは、フィールドイメージングの深さと高解像度測定を提供する洗練されたマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、クリティカルオーバーレイおよび3D統計プロセス制御アプリケーションに比類のない精度を提供します。このユニットは、プロセスの最適化、高いデータ精度、再現性のための究極のソリューションを提供し、クリティカルマスクとウェーハの詳細な分析と特性評価を提供します。キャリパーモザイクマシンの光学パッケージは、ハイエンドのテレセントリックレンズ、高度なテレセントリック照明ソース、精密なフレームグラバー、高度な画像処理で構成されています。テレセントリックレンズは、広い視野にわたって高い均一な照明を確保し、したがって、3Dボリューム検査を可能にします。これにより、ウェーハの正確な登録、オーバーレイ登録、および正確な面取り検出が保証されます。このツールは、1ナノメートルの解像度で重要な寸法と線幅を正確に測定する機能を備えています。また、マシンビジョンテクノロジーを自動化し、ウェーハまたはマスクの3Dサーフェスを分析し、その表面特性に関する正確な指標を提供します。このモデルは、粒子、亀裂、ドーパント拡散などの微小欠陥を極めた精度でウェーハ表面に検出することができます。この装置はまた、画像のスペクトル、位相、コントラストを正確に測定するフーリエ変換と離散コサイン変換アルゴリズムを進めています。システムに手動および自動操作モードがあり、使いやすさを提供します。マニュアルモードは、同じ環境内で画像をキャプチャ、編集、分析する機能を備えたイメージングプロセスを完全に制御します。自動モードは、ソフトウェアとのアライメントや機能識別などのほとんどの手順を処理します。NANOMETRICSキャリパーモザイクユニットには、ウェーハとマスクの均一性と表面特性に関する詳細な情報を提供する高度なデータ分析ツールも多数あります。高解像度の測定機能、3Dイメージング機能、自動化されたマシンビジョン技術により、この資産は重要なオーバーレイおよび統計プロセス制御アプリケーションの究極のソリューションを提供します。
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