中古 NANOMETRICS Caliper Mosaic #9383354 を販売中

ID: 9383354
ヴィンテージ: 2009
Overlay control system 2009 vintage.
NANOMETRICS Caliper Mosaicは、高度な検査機能とユーザビリティのための業界ベンチマークを設定するハイエンドのコラボレーティブベースのマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、欠陥検査やレビューから汚染検査、ウェーハとマスクの両方の最終的なテレセントリックビューまで、幅広い応用分野に適応できるように構築されています。キャリパーモザイクユニットの機能により、セットアップとメンテナンス時間を短縮する直感的なユーザーインターフェイスで、生産レベルのパターン認識機能を簡単に設定できます。NANOMETRICSキャリパーモザイクマシンの主要コンポーネントは、高解像度の充電結合デバイス(CCD)カメラ、取り外し可能な光学ボックス、およびコンパクトで堅牢なスキャンステージです。強力なCCDカメラにより、薄膜フィールドエフェクトトランジスタ(TFT)ウェハ、エピタキシャルウェハ、各種フォトマスクの検査が可能です。低光量カメラ設計により、あらゆる照明条件で高品質な検査を行うことができます。一方、高解像度の光学系は、欠陥などを正確に検出するために必要な精度を最大限の精度で提供します。また、新たに開発した「デュアルビーム」レーザーにより、マスクやウェーハパターンのエッジを迅速かつ正確にスキャンおよび検査することができる優れたパターンマッチング性能を提供します。このレーザーにより、アセットは臨界寸法(CD)と非臨界寸法(NCD)の両方のサンプルを迅速かつ正確に検査できます。また「、デュアルビーム」レーザーの小さなビーム寸法は、急速に動くパターンをキャプチャするのに最適な、密なパターンのための最速のパターンマッチングを可能にします。キャリパーモザイクモデルはまた、細かく調整された欠陥分類ライブラリを備えており、誤報を低減するだけでなく、ユーザーに問題領域の徹底的な評価を提供するポストプロセス機能を完全に補完します。これにより、ユーザーは検査結果をより制御し、より小さな欠陥を認識し、より大きな欠陥を分析できます。NANOMETRICSキャリパーモザイクは、オールインワンで効率的で信頼性の高いマスクおよびウェハ検査装置です。必要なパターンマッチング機能、欠陥分類、ポストプロセス機能に加えて、正確で洗練された検査結果をユーザーに提供します。この高度なツールは、使いやすさとユーザーフレンドリーなインターフェースを提供しながら、すべてのマスクおよびウェーハ検査ニーズを満たすように設計されています。
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