中古 NANOMETRICS Caliper Mosaic #9383351 を販売中
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NANOMETRICS Caliper Mosaicは、半導体マスク設計やウェハ製造プロセスにおける異常を検出するために設計されたマスク&ウェハ検査装置です。高速で高解像度の欠陥検出と、欠陥解析および自動欠陥レビューのための正確な測定を提供します。16ビットデジタルイメージングユニットを搭載し、最大25cm （10in）のウェーハ画像を撮影できます。ワイドフィールド（ローカル）とロングフィールド（グローバル）の両方のマスクビューをキャプチャして保存し、詳細な分析を行うことができます。キャリパーモザイクは、高解像度の機能により、ゲート酸化物の剥離、エッジ欠陥、クリティカルな寸法変化などの異常を高い精度で検出できます。このマシンには最新の直感的なソフトウェアが搭載されており、ユーザーはウェーハをすばやく簡単に見直すことができます。また、階層的欠陥分類、複数の画像の迅速なアライメント、高速評価のためのイメージライブラリの保存など、自動検査のための機能も含まれています。さらに、このツールはプリロードされた欠陥分類スキームの配列を提供し、マスクまたはウェーハ設計内の潜在的な問題を迅速かつ容易に特定できます。このアセットは、ウェハレベルとリソグラフィーの両方のアプリケーションで使用するのに適しており、ユーザーの特定のニーズに合わせてさまざまなカスタマイズオプションがあります。高度な欠陥レビューや自動化された2D/3Dプロファイルマッピングのためのツールなど、さまざまな強力な処理機能がサポートされています。これにより、ユーザーは設計内の複雑で微妙な欠陥を特定し、生産プロセスに関する貴重な洞察を得ることができます。NANOMETRICS Caliper Mosaicは、マスクおよびウェーハ検査の業界標準を設定し、欠陥を特定し、生産プロセスの効率を向上させるための信頼性の高い使いやすいプラットフォームをユーザーに提供します。
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