中古 NANOMETRICS Caliper Elan Ultra #293625744 を販売中

NANOMETRICSキャリパーエランウルトラは、半導体製造のために設計された高度なマスクおよびウェハ検査装置です。この強力なシステムは、走査型電子顕微鏡（SEM）技術とナノスケールイメージングを組み合わせて、重要なウェーハおよびマスク検査を行い、最小の特徴サイズで最高の精度測定を可能にします。このユニットは、大規模集積構造（LSI）の迅速な目視検査と測定、および平面外イメージングおよび地形検査用に設計されています。キャリパーエランウルトラは、動きやすい6軸モーター式ステージ、高品質の電子銃を備えた低ノイズ電子カラム、高解像度のデジタルビデオカメラ、高速電界放出電子ビームターゲティングマシンを備えています。マスクとウェーハ上の電子顕微鏡画像は、アノード、レチクル、スリットツールを備えた高度な光学パッケージによって可能になります。レチクルは調整可能なスリット幅を提供し、電子ビームが望ましい領域や特徴に正確に焦点を合わせることができます。このアノードを使用すると、非常に良いコントラストで画像を撮影することができ、詳細な分析に最適です。このスリット・アセットにより、電子ビームは多くの異なるレイヤーを追跡して正確にイメージすることができ、デジタルビデオカメラはすべての画像をフルカラーで詳細に記録します。イメージング機能は、調整可能な明るさとコントラスト機能とさまざまなソフトウェアベースのアルゴリズムによって強化され、画像の処理を分類および自動化できます。NANOMETRICS キャリパーElan Ultraを使用して、エンジニアは半導体マスクとウェーハの特徴と構造をナノメートルまで検査および測定することができます。正確な位置と測定のためのナノポジショニング、効率的な欠陥解析のためのイメージングマークアップ、取得した画像のリアルタイムヒストグラム表示などの自動機能を使用して、Caliper Elan Ultraは半導体製造のすべての段階に不可欠なツールです。また、コンパクトなデザインと頑丈な構造を誇り、信頼性と使いやすさを両立しています。NANOMETRICS キャリパーElan Ultraは、最も要求の厳しいアプリケーション向けに設計された優れたマスクおよびウェーハ検査装置です。先進のSEM技術とナノスケールイメージングを組み合わせており、最小のフィーチャーサイズで超精密な測定が可能です。自動化された機能、高解像度のイメージング機能、汎用性により、Caliper Elan Ultraはあらゆる半導体製造設備に必須です。