中古 NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT S-100 #77232 を販売中

NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT S-100
ID: 77232
ウェーハサイズ: 3"-6"
Qualimatic laser wafer inspection station , 3"-6" capability.
NANOMETRICS/BIO-RAD/ACCENT S-100は、高精度のインライン測定・解析用に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。光学リソグラフィーマスクやウェーハの包括的な検査、立体(3D)遅延マッピングが可能です。このシステムは、高度な光学技術を使用して、優れたイメージング性能と信頼性と再現性の高い結果を提供します。アクセントS-100は、サブミクロン分解能で高解像度の画像をキャプチャすることができ、小さな欠陥や変動を検出することができます。また、線幅、地形、その他の光学パラメータなど、さまざまな測定に使用できる強力なソフトウェアツールも備えています。さらに、このユニットは、半導体、金属、ガラス、光学コーティングなど、さまざまな材料の境界領域と特徴パラメータを測定することができます。BIO-RAD S-100のモジュラー設計により、ユーザーはマシンを特定の要件に合わせて構成することができます。照明ユニット、ウェハースキャンステージ、フィールドカメラ、画像解析ユニットの4つのコンポーネントで構成されています。照明ユニットは、最高レベルのディテールと精度で画像をキャプチャするために、さまざまな角度と強度の光を提供します。ウェハスキャナはフィールドカメラとの関係でウェハを移動させ、表面と複雑な特徴を完全に調べることができます。フィールドカメラは、偏光状態の有無にかかわらず、高解像度画像と低倍率画像の両方をキャプチャします。S-100の画像解析機能を使用すると、古い画像と新しい画像を比較して、ウェーハの構造的特徴の変化を検出し、結果として生じる差異を評価できます。また、ユーザーは大量の画像を迅速かつ正確に処理し、詳細なレポートを作成するために使用できるデータを収集することができます。NANOMETRICS S-100は、その性能に加えて、製造性のために設計されているため、大量の生産ラインに統合することができます。これは、収集された画像を絶えず分析する高度なアルゴリズムによって供給され、検査プロセスのすべての段階で高精度と再現性が一貫して維持されます。NANOMETRICS/BIO-RAD/ACCENT S-100マスクおよびウェーハ検査ツールは、高精度の検出、測定、分析のための強力なツールです。これは、信頼性と再現性の高い結果を提供するだけでなく、優れたイメージング性能のための高度な光学技術を提供します。その高度なアルゴリズムにより、検査プロセスのすべての段階で精度と再現性が保証され、大量生産ラインに最適です。
まだレビューはありません