中古 NANOMETRICS AFT 4000 #85006 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 85006
Film thickness and reflectivity system
Standard film types measured
Single layer films: Visible 500-50,000A; UV 25-500A
Double layer films: Visible Top Layer 100-30,000A; Bottom Layer 100-10,000A
Single layer thick films: Visible 4-75 microns
Reflectance: Visible 400-850nm
Oxide on poly: UV 150-10,000A
Oxide on metal: Visable 3,000-20,000A; UV 500-5,000 A.
NANOMETRICS AFT 4000は、有害化学物質や後処理にウェーハを露出する前に、欠陥のあるマスク構造およびウェーハ欠陥を正確かつ迅速に評価するために設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムを使用すると、マスクまたはウェーハの欠陥を迅速に検査し、さらに調査するための情報を報告することができます。AFT 4000は、誘電体の最小欠陥であっても検出および測定において比類のない性能と高精度を提供します。Quadra-Techイメージング技術を搭載し、高速で高解像度のイメージング機能を提供します。これにより、NANOMETRICS AFT 4000は、マスクまたはウェーハ上のマスクパターン、レイヤー、3Dフィーチャーの優れた画像を生成することができます。このマシンには、絶縁体や構造物の微細な構造を検出できる独自の結合エッチング機能解析ツールが搭載されています。さらに、FTIR分光法などの高度な解析ツールも提供しており、欠陥の物理的および化学的な特性を正確に測定することができます。AFT 4000にはオプションのDiagnostic Feature Analysis Toolも搭載されており、偏差の重大度を正確に定量化できます。このツールは、欠陥が結果の製品の品質に影響を与えるかどうか、または後処理で安全に修正できる偽陽性であるかどうかを決定するのに役立ちます。NANOMETRICS AFT 4000は、欠陥評価に関して最高レベルの精度と速度をユーザーに提供するように設計された、非常に高度なマスクおよびウェーハ検査アセットです。高度なイメージングおよび解析機能により、誘電体の最小欠陥を簡単に検出および測定できます。また、オプションの診断機能解析ツールにより、ポスト処理にコミットする前に欠陥を正確に識別および分析することができます。
まだレビューはありません