中古 NANOMETRICS AFT 210 #9083845 を販売中

NANOMETRICS AFT 210は、製造プロセス中の欠陥を検出および測定するために設計された先進的なウェーハおよびマスク検査装置です。このシステムは、広い作業領域とローカル制御コンピュータを備えているため、半導体デバイスの製造に最適です。AFT 210には、最大8つのマスクレベルを一度に測定できる高度なマルチポイントツールが装備されています。各マスクのレベルは異なった点検変数のために調節することができます。これにより、小さな汚染物質から大きな表面の不規則性まで、さまざまな欠陥を検出することができます。NANOMETRICS AFT 210は、ATレベルの光学機器を使用して偽陽性の量を減らします。このツールは、サンプルウェーハだけでなく、マスクからの画像を分析することができます。また、検査プロセスの状況をリアルタイムで把握できるため、オペレータのパフォーマンス監視が容易になります。収集可能なデータ量を最大化するために、AFT 210の検査モデルには自動3Dイメージング装置が含まれています。このシステムにより、検査プロセスがより正確になり、より良い結果が得られます。さらに、3Dイメージングユニットを使用すると、機械が欠陥を詳細に検出することができ、オペレータは欠陥をより正確に識別して測定することができます。NANOMETRICS AFT 210には、自動欠陥レビューツールもあります。このアセットにより、オペレータはマスク検査から欠陥画像をすばやく探してレビューすることができます。レビューモデルは、複数のウェーハの結果を比較することもでき、発生する可能性のあるプロセスの不整合を迅速に検出することが容易になります。AFT 210は、非常に正確で堅牢なウェーハおよびマスク検査装置です。マスクとウェーハの両方を極めて詳細に検査することができ、欠陥の最小でも検出することができます。また、検査プロセスをリアルタイムで追跡し、欠陥レビューを自動化することも可能です。これを組み合わせることで、NANOMETRICS AFT 210は、あらゆる半導体製造プロセスにおいて品質管理を確保するための理想的なツールとなります。