中古 NANOMETRICS 9010 #9358223 を販売中

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ID: 9358223
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Thickness measurement systems, 12" No manual 2008 vintage.
NANOMETRICS 9010マスクおよびウェハ検査装置は、半導体業界のプロセス制御および欠陥検出用に設計された高品質で堅牢なシステムです。特定の統合技術と高精細カメラを使用して基板の欠陥を検出し、拡張光学を追加して精度を高めます。単位に点検範囲を通して明確で、一貫したイメージを提供する高度の光学があります。これにより、ウェーハ、パターン、チップ、パッケージ、およびダイデバイスなど、さまざまな基板サイズとタイプの鮮明でピクセル精度の高い画像が保証されます。また、反射材料を処理して、粒子検出のための欠陥や抵抗材料を識別することができます。9010は10nmの小さい中断された、中断されていない粒子を検出できます。また、複数の解析ツールと高度なパターン認識を備えています。多層解析およびスキャンによる検査機能により、迅速かつ正確な欠陥検出が可能です。また、テクスチャや表面プロファイル、印刷性も検出できます。さらに、高速ビジョンベースの検査機を搭載しており、複雑なパターンや機能を完全に自動化した検査が可能です。さらに、このツールには完全に自動化された多機能測定ツールが含まれており、線幅、バリア幅、エッジソリューションの高さ、面積などの重要なプロセスパラメータを迅速に測定できます。これにより、より厳格なプロセス制御が可能になり、ユーザーに自信を与えます。NANOMETRICS 9010には、欠陥分類、クラスタリング、優先順位付けも自動化されています。それはparmeterの指定に従って欠陥にタグを付けることができ、またあらゆる潜在的な脆い失敗にユーザーに警告できます。また、バンプやビアなどの小さな特徴を測定することができます。9010は、より正確な欠陥検出、多機能測定、自動欠陥分類、および自動タグ付けを提供する強力で正確なマスクおよびウェーハ検査資産です。その拡張光学、HDカメラ、および複数の分析ツールは、より正確な結果と高速な結果を提供します。これらの機能を組み合わせることで、NANOMETRICS 9010はプロセス制御および欠陥検査アプリケーションに最適です。
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