中古 NANOMETRICS 8000XSE #9389858 を販売中

NANOMETRICS 8000XSE Mask and Wafer Inspection Equipmentは、半導体マスクおよびウェーハの検査および分析用に設計された、費用対効果の高い高精度なプラットフォームです。これは、以前ははるかに高価なシステムでのみ利用可能な最先端のスペクトルドメインイメージング技術を搭載しています。これにより、粒子、傷、構造異常などのマスク表面およびウェーハ表面のラインおよびスペース欠陥を高解像度でリアルタイムで画像化できます。NANOMETRICS 8000 XSEは、生産と研究開発の両方のニーズのために設計されています。強力で使いやすいソフトウェアを搭載しており、迅速、分析、レポート作成が可能です。また、高度な画像補正機能の配列を提供し、検査プロセス全体を通して、照明の不規則性やその他の異常にもかかわらず、画像の正確な分析を可能にします。8000XSEは、マスクとウェーハサーフェスの両方を同時にスキャンできる2レール構成を備えています。マスク用とウェーハ用の2セットの真空チャックは、マスクとウェーハの条件を正確に比較できるように、画像が正確に整列されていることを確認します。システムの光学ユニットには、3つの波長で物体表面を照らす偏光ビームスキャナが含まれています。イメージングには、VGAとCCDという2つのパンクロマチック検出器が使用されています。各検出器は異なる解像度を提供し、最高解像度の画像を提供するために組み合わせることができます。マシンが高精度を保証するために使用する計算およびアルゴリズムは、GPUコプロセッサと統合されたFPGAベースの画像プロセッサを使用して実行されます。これにより、高速な処理速度と高精度な画像解析結果が保証されます。また、人間工学に基づいたユーザーフレンドリーなデザインで、軽量でコンパクトなフォームファクタと、簡単な校正のためのユーザー交換可能なフィルターホイールを備えています。8000 XSEは、小型で輸送可能なケースでバッテリー駆動およびパッケージ化されています。全体として、NANOMETRICS 8000XSE Mask and Wafer Inspection Assetは、生産と研究開発の両方のニーズに対応する高度で高精度なソリューションです。軽量で使いやすいパッケージで、マスクやウェーハ表面の正確でリアルタイムな画像を提供することができます。