中古 NANOMETRICS 8000XSE #9230881 を販売中

NANOMETRICS 8000XSEは、生産および研究開発アプリケーションの両方で優れた性能を提供するように設計された次世代のマスクおよびウェーハ検査装置です。NANOMETRICS 8000 XSEシステムは、高解像度イメージング、高度なパターン認識、高度なソフトウェアツールを組み合わせて、包括的なウェーハおよびマスク検査を可能にします。このユニットは、特許取得済みの光学イメージング技術を使用して、画像解像度を大幅に向上させています。この技術により、マシンはウェーハとマスクの両方の欠陥フィーチャーを12nmまで検出することができます。これにより、ダブルパターニングなどの低ノイズリソグラフィープロセスに関連するリスクを特定して最小化するとともに、プロセス関連およびラインエッジ効果を特定するのに役立ちます。8000XSEは、既存のウェーハ製造ラインにシームレスに統合することができ、自動露光システム、計測システム、欠陥レビューシステムなど、さまざまな種類のマスクおよびウェーハ検査ツールを実行することができます。生産性を向上させ、サイクルタイムを短縮するとともに、正確な測定を提供するように設計されたハイスループットモードが付属しています。このツールは、生産環境で動作するように設計されているため、動作中のウェーハのほこり、振動、損傷を防ぐ高度な環境制御が装備されています。アセットの高度なパターン認識機能により、従来のシステムでは見られない小さな欠陥を正確に認識できます。これは、従来の検査モデルでは識別が困難であったパターン関連とプロセス関連の欠陥の両方を検出する場合に非常に有益です。信頼できるイメージング技術と高度なパターン認識機能に加えて、8000 XSEには、手動検査の必要性とそれに伴うコストを削減するために設計された洗練されたソフトウェアスイートが付属しています。このソフトウェアスイートは、画像比較、欠陥分類、解析、データストレージおよび検索などのタスクを処理できます。ソフトウェアツールはユーザーフレンドリーに設計されており、エンジニアはプロセスの問題や欠陥を簡単に見つけて対処することができます。NANOMETRICS 8000XSEは、生産と研究開発の両方の市場に適した高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。その高度な光学イメージング技術と高度なソフトウェアツールは、あらゆる検査作業に魅力的な選択肢です。