中古 NANOMETRICS 8000XSE #9228097 を販売中

NANOMETRICS 8000XSEは、パターニングおよびウェーハ欠陥の検出と識別を目的とした最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高度な計測技術とイメージング技術を使用して、マスクとウェーハの高解像度画像を生成します。このユニットは、パターンの不連続、パターンギャップ、および省略、ならびにマスクとウェーハのラインエッジ、ライン幅、サイドウォール角度の変化を検出することができます。さらに、汚染、欠陥、および失敗した磨きなどの欠陥を検出することができます。NANOMETRICS 8000 XSEは、検査プラットフォーム、データ解析モジュール、および精密光学ステージで構成されています。検査プラットフォームは、6インチの固定視野を持つイメージングマシンで構成され、0.4µm解像度までズームできます。光学ステージにはオートフォーカスツールが含まれており、ウェハ全体の欠陥をスキャンできます。このアセットは、ユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスでリモートで制御できます。データ解析モジュールには、欠陥を検出、分類、定量化し、これらの問題を視覚的に表現する独自のアルゴリズムが含まれています。8000XSEは、さまざまな技術を利用して欠陥を検出、分類、定量化します。これらの技術には、スペクトル反射測定、カラーフィルターイメージング、および空間分解能イメージングが含まれます。これらの解析技術により、幅の小さい欠陥を検出0.2µmます。さらに、このモデルは、1回の操作でウェーハ全体をスキャンすることができ、最大200mm²のフィールド領域をカバーすることができます。8000 XSEには、後でレビューするために最大1000枚の画像を保存できる高速メモリカードも含まれています。NANOMETRICS 8000XSEは、マスクとウェーハの製造において貴重なツールです。この装置は、幅広い欠陥を迅速かつ正確に検出する高解像度イメージング機能を提供します。生産コストを最小限に抑えながら、最大限の生産性と品質保証を実現するシステムです。