中古 NANOMETRICS 8000 #9284335 を販売中

NANOMETRICS 8000は、半導体ウェーハおよびマスク検査に使用される最先端の計測ツールです。この装置は、ウェーハとマスクの両方に正確な2Dデータを提供するように設計されており、ユーザーは材料の品質と組成に関する重要な決定を下すことができます。このシステムは、高度なイメージングと分析機能を備えた革新的なレーザー顕微鏡をベースにしています。8000は、スキャンレーザー顕微鏡とフリンジ投影を組み合わせた、CCD（充電結合デバイス）技術に基づく自動ウェーハ検査マイクです。レーザー技術は、ウェーハとそのマイクロリソグラフィックマスクの高解像度画像を取得するために使用されます。カメラは2つの独立したレーザーソースを備えており、1つはサンプルの高精細画像を提供し、2つ目はエッジ検出に最適化されています。イメージングシステムは、必要性と環境に応じて、ナノメートルからマイクロメートルまでの範囲の解像度で動作することができます。さらに、マスクやウェーハの表面欠陥や摩耗を検出して監視することもできます。NANOMETRICS 8000の強力なイメージング機能により、プロセス制御と品質管理のための貴重なツールとなります。機械は製造プロセスの正しさの強力なフィードバックを提供できます。例えば、タングステンライン幅や欠陥検出などの電気特性を監視することで、最終製品に到達する前にエラーを検出し、製造工程でコストを節約することができます。8000は、マスクとウェーハの2dマッピングと特性評価のための完全な環境を提供します。このツールには、強力な画像処理ツールを備えたハイエンドのデータ収集および分析ハードウェアとソフトウェアが含まれています。これらのツールは、精密な表面測定、サンプル間の詳細な比較分析、非対称検出、均一性の問題、粒子サイズなどの材料特性を可能にし、材料の品質を評価する際に情報に基づいた意思決定を行うことができます。結論として、NANOMETRICS 8000はウェーハやマスクの高性能検査資産です。高度なレーザー技術を活用することにより、強力なイメージング結果を提供し、ユーザーはそれらの材料について正確かつ情報に基づいた意思決定を行うことができます。また、イメージングおよび解析機能が強化されているため、プロセス制御および品質管理にとって貴重なツールとなっています。