中古 NANOMETRICS 7000-019630 #9095996 を販売中

NANOMETRICS 7000-019630 Mask&Wafer Inspection Equipmentは、高度なウェーハおよびマスク検査システムであり、ウェーハおよびマスク機能の詳細なビューを提供するように設計されています。特許取得済みのユニークなレンズユニットを搭載しており、従来のシステムよりも最大1000倍の速さで画像を取得できます。これにより、はるかに高い解像度のイメージングが可能になり、ウェーハやマスクの欠陥のトラブルシューティングや文書化が容易になります。この機械は、デジタル顕微鏡、CCDカメラ、光学システムなどのさまざまな視覚およびスキャンツールを使用しています。これらのツールは、ウェーハとマスク表面のさまざまな特徴を測定することができ、ウェーハとマスクの表面を包括的に表示できます。このツールの光学表示アセットは、ウェーハとマスク表面全体にわたって2。5〜1。6 μ mのサイズの画像を取得することができます。これは、詳細な画像や関心のある領域を取得するために、カスタム構築された光学プローブモデルを利用しています。高度なソフトウェアは、画像の簡単な操作と3D再構築を可能にします。NANOMETRICS Equipmentは多軸ステージを使用し、ウェーハとマスクをX、 Y、 Z方向に移動させることもできます。これにより、ウェーハとマスクの表面の特徴と欠陥を正確にマッピングできます。ステージは回転して傾くことができ、ビューを変更し、0。1 μ mの小さいエリアを検査します。また、強力な画像解析とリアルタイム表示機能を備えています。強力なソフトウェアは、ウェーハとマスクの欠陥を正確に検出し、複雑な画像比較を実行することができます。欠陥解析結果は、複数の人員およびシステム間で共有して欠陥追跡を行うことができます。7000-019630マスク&ウェーハ検査ユニットは、効率的かつ正確にウェーハおよびマスク機能を監視し、文書化するために設計された強力なモジュラーマシンです。ハイエンドの光学イメージング機能、多軸ステージ、画像解析、リアルタイムディスプレイ技術により、ウェーハやマスク表面の詳細な検査を求める人に最適なソリューションです。