中古 NANOMETRICS 4150 #9188635 を販売中

NANOMETRICS 4150は、半導体材料の欠陥、汚染物質、および非均一性を識別および分析するために設計された最先端のマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、高性能と革新的な機能を提供し、サイコロやエッチング後のマスクやウェーハの品質を迅速かつ簡単に監視できます。このユニットは、干渉計のキャビティに2つのレーザービームを組み合わせた独自のDualFarfield Interferometer （DFI）を使用しています。2つのレーザービームは2つの線形軸に沿って配置され、マスクまたはウェーハの3D画像を提供します。このマシンは、結果の画像を分析し、形状、サイズ、位置のわずかな変化を検出します。4150ツールは、強力なソフトウェアを使用して、現在のウェーハまたはマスクを格納されたリファレンスと比較し、汚染物質、鋭いエッジ、亀裂、およびその他の欠陥を探すことができます。アセットはまた、参照と現在のパターン間の正確な相関関係を分析および計算するパターン認識アルゴリズムを利用します。一方、高度なノイズフィルタリングツールは、統計的な方法を使用して、サーマルドリフトや電子ノイズなどのノイズを低減します。このモデルの直感的なユーザーインターフェイスにより、ユーザーはマスクやウェーハを簡単にスキャンし、リアルタイムで結果を調べることができます。さらに、この機器は、正確な画像取得と効率的なデータ分析を容易にする互換性のあるアクセサリの範囲を提供します。これらには、高解像度レンズ、ウェハーマウントフレーム、自動表面プレートなどが含まれます。印象的なハードウェアと強力なソフトウェアに加えて、NANOMETRICS 4150には、ユーザーが簡単にシステムの機能を学び、迅速に熟練することができるユーザーフレンドリーなドキュメントも含まれています。最適な人間工学と信頼性の高い結果を備えた4150は、ユーザーが正確な品質管理を保証し、最適なデバイス歩留まりを保証することを可能にする最高レベルのユニットです。